[发明专利]无电镀金液有效
申请号: | 201510028302.4 | 申请日: | 2015-01-20 |
公开(公告)号: | CN105862016B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 李台镐;韩德坤;成泰贤 | 申请(专利权)人: | 韩国明全化工有限公司 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44 |
代理公司: | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙)31239 | 代理人: | 胡艳 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀金 | ||
1.一种无电镀金液,包含:
去离子水,
水溶性金化合物,
络合剂,
pH值缓冲剂,
pH值控制剂,
还原剂,和
钯离子催化剂活化剂;
其中所述钯离子催化剂活化剂是由下面的化学式1所代表的酰胺化合物:
其中R'和R"是CH3、C2H5、CH2OH或C2H4OH,且n为在2至5范围内的整数。
2.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述水溶性金化合物选自氰化金钾、氰化金钠、亚硫酸金钠、和亚硫酸金铵。
3.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所含的所述水溶性金化合物,以溶解于去离子水的金含量计,在1至2g/L范围内。
4.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述络合剂选自羟基乙二胺三乙酸、四羟基乙二胺、二羟基亚甲基二胺二乙酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、乙二胺四丙酸、丙三醇、亚氨基二乙酸、二乙三胺五乙酸(DTPA)、N,N-二羧基甲基甘氨酸(NTA)、羟乙基甘氨酸、甘氨酸、柠檬酸、丙二酸、乙二酸、酒石酸、丁二酸、及其碱金属盐。
5.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述络合剂的浓度为溶解于所述无电镀金液中的金浓度的5至10倍。
6.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述pH值缓冲剂选自磷酸二氢钾、磷酸二氢钠、四硼酸钾、四硼酸钠、和磷酸氢二钾。
7.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中以相对于去离子水为0.1至0.5mol/L范围内的含量而含有所述pH缓冲剂。
8.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述pH值控制剂选自磷酸、盐酸、硫酸、氢氧化钠、和氢氧化钾。
9.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中pH值用所述pH值控制剂调整到6.5至7.5的范围。
10.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述还原剂是选自抗坏血酸、羟胺、肼、二甲基胺硼烷、硫脲、对苯二酚、甲醛、甲酸、和甲酸钠。
11.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中含有相对于去离子水为0.05至2mol/L的范围内的所述还原剂。
12.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中含有相对于去离子水为0.01至0.2mol/L范围内的所述酰胺化合物。
13.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述酰胺化合物是由下面的化学式2或化学式3所代表的酰胺化合物:
14.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中所述无电镀金液用于ENEPIG(无电镀镍/无电镀钯/浸金)方法。
15.根据权利要求1所述的无电镀金液,其中镀金的厚度调整到0.01至0.5μm的范围。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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