[发明专利]一种提高热蒸发制备AlF3薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法

权利要求书

1.一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，其特征在于实现步骤如下：

步骤(1)、在高真空镀膜机中利用电阻加热蒸发方法蒸发AlF₃制备AlF₃薄膜，电阻加热蒸发通过加热金属坩埚实现，金属坩埚由钨、钼或者钽材料制备；

步骤(2)、以AlF₃作为低折射率材料，以其他氟化物作为高折射率材料制备具有特定性能的光学膜系，AlF₃与高折射率材料的厚度通过计算机优化确定，薄膜厚度可以通过石英晶体振荡光学控制方法控制；

步骤(3)、在膜系表面沉积特定厚度膜层MgF₂，提高AlF₃薄膜深紫外波段的时效性，所需的MgF₂材料的厚度在30nm以上。

2.根据权利要求1所述的一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，其特征在于：可以将靠近表面的至少一层AlF₃膜层转换为MgF₂膜层，并通过计算机优化MgF₂薄膜厚度实现。

3.根据权利要求1所述的一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，其特征在于：在深紫外波段可以利用SiO₂膜层替代MgF₂膜层提高以AlF₃为低折射率材料的膜系的时效性。