[发明专利]钙钛矿光学脉冲调制器件及其制备工艺与应用

权利要求书

1.一种钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其特征在于，该器件作为激光器中脉冲调Q器件或锁模器件的应用；

所述钙钛矿光学脉冲调制器件包括一石英玻璃衬底，和沉积在该衬底上面、厚度为300-600nm钙钛矿薄膜；在该衬底背面镀以有利于激光振荡的介质膜；沉积有钙钛矿薄膜的一面朝向激光腔内，另一面朝向激光腔外，实现对1.05-1.1μm红外波段的激光进行调制；

在激光器运用中，采用端面或者侧面泵浦的方式，将泵浦光输入到激光增益介质中，所述泵浦光经过激光增益介质后再通过所述的钙钛矿脉冲调制器件，置于激光增益介质前面的前腔镜与置于钙钛矿脉冲调制器件后面的输出镜形成谐振腔；所述的前后腔镜均镀有利于激光振荡的介质膜。

2.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其特征在于所述的钙钛矿薄膜是甲基氨基碘化铅；钙钛矿薄膜厚度为400-500nm。

3.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其特征在于所述的石英玻璃衬底厚度为0.5mm-2mm。

4.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其特征在于在所述衬底背面镀以对1.05-1.1μm高透的介质膜。

5.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其中，所述的激光增益介质是Nd:YAG或Nd:YVO₄晶体，Nd^3＋离子浓度为0.01-0.5at.%。

6.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其中，所述的泵浦源为半导体激光二极管或氙灯光源。

7.如权利要求1所述的钙钛矿光学脉冲调制器件的应用，其中，所述的前腔镜选用一个半径为10-100mm的平透镜，镜面镀以对1.05-1.1μm高反射的介质膜，前腔镜与调Q器件之间的距离为0.05-8cm；所述的后腔镜选用一个半径为10-100mm的平凹镜，凹面镀以对1.05-1.1μm部分透过的介质膜，后腔镜与调Q器件之间的距离为0.05-8cm；前腔镜与后腔镜的距离为1－10cm。