[发明专利]连续剪切干涉测量方法在审
申请号: | 201510035268.3 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN104567721A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 马康;谢惠民 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B11/26 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 连续 剪切 干涉 测量方法 | ||
1.一种连续剪切干涉测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
通过相干梯度敏感干涉方法CGS的方法设置光路,其中,所述光路包括第一光栅、第二光栅、透镜和光屏;
在所述第一光栅和第二光栅之间设置旋转台;
在所述旋转台之上设置预设厚度和折射率的透明介质薄片;
根据旋转角与相移量的定量关系确定每次旋转角度,并根据所述旋转角度控制所述透明介质薄片旋转三次以保证每次相移步进量为π/2;
获取所述透明介质薄片旋转之前的第一图像,并获取所述透明介质薄片每次旋转之后的第二图像至第四图像;
按照四步移相原理式对所述第一图像至第四图像进行灰度运算以获取包裹相位场;以及
进行解包裹以获取形貌、曲率和梯度场。
2.如权利要求1所述的连续剪切干涉测量方法,其特征在于,红光和绿光的光程差为:
δS(x,y+ε)-δS(x,y)=2δω+δS1-δS2,
其中,δS(x,y+ε)与δS(x,y)分别为试件表面y方向距离为ε的两个点所反射的光线的光程,2δω表示因试件离面位移所引起的光程差,δS1与δS2分别代表两条光线除却离面位移影响之外的光程;和
其中,d为平面介质厚度,n为平面介质的折射率的含义如图所示。
3.根据权利要求2所述的连续剪切干涉测量方法,其特征在于,
平面介质中的光程差为:
平面介质外的光程差为:
其中,δe为一过渡光程差量。
4.根据权利要求3所示的连续剪切干涉测量方法,其特征在于,所述δe根据以下公式获取,所述公式为:
δe=(d3+d4)-(d1+d2)=(H1-H2)·tanα。
其中,α为平面介质旋转角。
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