[发明专利]化妆材料

权利要求书

1.一种化妆材料，其特征在于，其是交联型有机聚硅氧烷聚合物，并且是在硅氢加成反应用催化剂的存在下，使在一个分子中具有两个以上的和硅原子键结的氢原子的有机氢聚硅氧烷、与在一个分子中具有两个以上脂肪族不饱和键的聚氧化烯和/或聚甘油进行反应而获得，并且，所述化妆材料含有(A)氧化烯单元和/或甘油单元含量在0.5质量％以上且不足5.0质量％的聚合物、与(B)氧乙烯单元和/或甘油单元含量在5.0质量％以上且20.0质量％以下的聚合物，并且，前述(A)聚合物与前述(B)聚合物的质量比为5：95～60：40。

2.如权利要求1所述的化妆材料，其中，前述(A)聚合物和前述(B)聚合物的交联型有机聚硅氧烷聚合物，分别是使选自由下述通式(I)表示的有机氢聚硅氧烷、与由下述通式(II)、(III)、(IV)表示的聚氧化烯化合物和由下述通式(V)表示的聚甘油化合物中的一种以上进行加成聚合而成，其不溶于有机溶剂，并且含有与自重为相同重量以上的液态油进行膨润，

R¹_aH_cSiO_(4-a-c)/2 (I)

C_dH_2d-1O(C_eH_2eO)_fC_dH_2d-1(II)

C_dH_2d-1O(CH₂CH(OH)CH₂O)_hC_dH_2d-1(V)

式中，R¹是分别相同或不同且不具有链烯基的取代或未取代的碳数1～30的单价烃基，R³为氢原子或者是不具有链烯基的取代或未取代的碳数1～10的单价烃基，R⁴是分别相同或不同且是与R³相同的有机基或由-C_dH_2d-1表示的有机基，a和c分别是1.0≤a≤2.3、0.001≤c≤1.0且是满足1.5≤a+c≤2.6的正数，d为2～6的整数，e为2～4的整数，f为1～200的整数，g为1～20的整数，h为2～10的整数，x为0或1。

3.如权利要求2所述的化妆材料，其中，前述(A)聚合物和前述(B)聚合物，分别是使前述有机氢聚硅氧烷(I)、和前述聚氧化烯化合物(II)或前述聚甘油化合物(V)进行加成聚合而成，前述(A)聚合物中的氧乙烯和/或甘油单元含量在0.5质量％以上且不足5.0质量％。

4.如权利要求1所述的化妆材料，其中，总计含有前述化妆材料总量的1.0质量％以上且50质量％以下的前述(A)聚合物和前述(B)聚合物。

5.如权利要求2所述的化妆材料，其中，总计含有前述化妆材料总量的1.0质量％以上且50质量％以下的前述(A)聚合物和前述(B)聚合物。

6.如权利要求3所述的化妆材料，其中，总计含有前述化妆材料总量的1.0质量％以上且50质量％以下的前述(A)聚合物和前述(B)聚合物。

7.如权利要求1～6中任一项所述的化妆材料，其中，所述化妆材料还含有水，并且为乳剂形态。

8.如权利要求7所述的化妆材料，其中，前述乳剂的形态为油包水型。

9.如权利要求1～6中任一项所述的化妆材料，其中，还含有：硅酮油、烃油、二醇类、酯油、甘油酯油及紫外线吸收剂中的任意一种以上。

10.如权利要求7所述的化妆材料，其中，还含有：硅酮油、烃油、二醇类、酯油、甘油酯油及紫外线吸收剂中的任意一种以上。

11.如权利要求8所述的化妆材料，其中，还含有：硅酮油、烃油、二醇类、酯油、甘油酯油及紫外线吸收剂中的任意一种以上。

12.如权利要求1～6中任一项所述的化妆材料，其中，所述化妆材料还含有粉末，并且为分散有该粉末的液态、糊状及固体状中的任意一种形态。

13.如权利要求7所述的化妆材料，其中，所述化妆材料还含有粉末，并且为分散有该粉末的液态、糊状及固体状中的任意一种形态。