[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201510038766.3 申请日: 2015-01-26
公开(公告)号: CN104536633B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 杨盛际;董学;王海生;薛海林;赵卫杰;许睿;包智颖;李月;李彦辰;吕振华;陈希 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G02F1/1333;G02F1/1343
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形;其中,所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极,所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线,每一条触控电极走线对应连接一个块状电极;

所述块状电极在所述触控电极走线垂直对应的区域具有空隙。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述触控电极走线图形形成在像素开口区域之外。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形垂直对应的区域之外。

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形,所述屏蔽线图形形成在所述数据线图形所对应的区域,用于屏蔽所述数据线图形产生的电场。

5.如权利要求1-4其中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括形成在所述公共电极图形所在的层结构与所述数据线图形所在的层结构之间的绝缘结构,所述触控电极走线图形形成在所述绝缘结构中。

7.一种制作阵列基板的方法,其特征在于,包括:在基底上形成触控电极走线图形,所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线;形成公共电极图形,所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极;

其中,每一条触控电极走线对应连接一个块状电极;

所述块状电极在所述触控电极走线垂直对应的区域具有空隙。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,形成公共电极图形包括:

沉积公共电极层,并对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形;

其中,对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形包括刻蚀掉所述触控电极走线图形上方垂直对应的公共电极层。

9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,在基底上形成触控电极走线图形包括:在形成数据线图形之后,在形成所述公共电极图形之前,形成触控电极走线图形。

10.如权利要求7所述的方法,其特征在于,该方法还包括形成所述触控电极走线图形时,在数据线图形所对应的区域同层形成屏蔽线图形。

11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。

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