[发明专利]一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统

权利要求书

1.一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，包括：

液体供给装置，用于在投影物镜及基底台之间提供液体；

基底，位于所述基底台之上并浸没于所述液体中；

缓冲伸缩装置，所述缓冲伸缩装置位于所述液体供给装置和基底之间，用于实现所述液体的密封，可在光轴方向上移动；

所述缓冲伸缩装置与所述液体供给装置相连，所述缓冲伸缩装置与所述基底之间保持在预设间隙范围内。

2.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述缓冲伸缩装置的末端包括柔性橡胶薄膜圈对所述液体进行密封，所述柔性橡胶薄膜圈与所述基底之间的距离保持在预设间隙范围内。

3.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述缓冲伸缩装置沿与所述投影物镜的光轴垂直的方向旋转。

4.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述缓冲伸缩装置包括：气体供给通道，用于提供一高速率气流；以及气液回收通道，用于气液回收。

5.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，还包括测量装置，所述测量装置用于测量所述缓冲伸缩装置与所述液体供给装置之间的相对位移。

6.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述缓冲伸缩装置还包括致动装置，所述致动装置用于实现所述缓冲伸缩装置在Z、Rx、Ry方向上运动。

7.如权利要求1所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，还包括缓冲伸缩装置控制器以及基底台控制器，用于控制所述缓冲伸缩装置和所述基底台以相同的速度和加速度运动，避免所述缓冲伸缩装置和所述基底台发生碰撞。

8.如权利要求7所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，还包括补偿装置，用于补偿所述缓冲伸缩装置与基底台之间的浸没液体的刚度k和阻尼系数D。

9.如权利要求6所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述致动装置的数量为三个，均匀分布于所述缓冲伸缩装置的边缘处。

10.如权利要求6所述的浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，所述致动装置为微型致动器，所述微型致动器为压电致动器、微型步进电机或音圈电机。