[发明专利]水平井轨迹校正方法

权利要求书

1.一种水平井轨迹校正方法，用于将所述水平井与对接导向孔(12)相互对接，其中所述水平井的实钻轨迹位置(11)与水平井已设计的气化通道轨迹(13)大致相同，包括如下步骤：

步骤S1：根据所述气化通道轨迹(13)在地面水平投影的两侧设置两个对称的导向孔(14A,14B)；

步骤S2：通过所述导向孔(14A,14B)测量所述水平井的实钻轨迹位置(11)相对于所述导向孔(14A,14B)在井底的相对准确位置(11A,11B)；

步骤S3：根据所述相对准确位置(11A,11B)以及测量得到的水平井的实钻轨迹位置(11)确定出实钻轨迹的真实位置(11C)；

步骤S4：根据所述真实位置(11C)不断调整实钻轨迹使其与所述气化通道轨迹(13)保持一致。

2.根据权利要求1所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述步骤S1中，所述气化通道轨迹(13)在地面水平投影的两侧设置导向孔(14A,14B)时，所述导向孔(14A,14B)与所述气化通道轨迹(13)在地面水平投影之间的距离需满足合适的距离，以使所述导向孔(14A,14B)能监测到实钻轨迹。

3.根据权利要求1所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述步骤S2中，通过所述导向孔(14A,14B)测量所述水平井的实钻轨迹位置(11)相对于所述导向孔(14A,14B)在井底的相对准确位置(11A,11B)的步骤如下：首先确定所述导向孔(14A,14B)的井底坐标；然后在所述导向孔(14A,14B)内侦测所述水平井的实钻轨迹位置(11)的坐标；最后，根据所述导向孔(14A,14B)的井底坐标以及所述水平井的实钻轨迹位置(11)的坐标确定所述相对准确位置(11A,11B)的坐标。

4.根据权利要求3所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述导向孔(14A,14B)的井底坐标通过陀螺仪测量。

5.根据权利要求3所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述水平井的实钻轨迹位置(11)的坐标通过在所述导向孔(14A,14B)内下放监测探管分别测量所述水平井的实钻轨迹位置(11)的井斜、方位及垂深。

6.根据权利要求1所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述步骤S3中，所述水平井的实钻轨迹位置(11)根据所述水平井自身测量软件计算得出。

7.根据权利要求1所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述步骤S4中，根据所述真实位置(11C)，利用计算软件分析后期施工的方位，不断调整实钻轨迹使其与已设计的气化通道轨迹(13)保持一致。

8.一种水平井轨迹校正方法，用于将所述水平井与对接导向孔(12)相互对接，其中所述水平井的实钻轨迹位置(11)与水平井已设计的气化通道轨迹(13)大致相同，包括如下步骤：

步骤S1：根据所述气化通道轨迹(13)在地面水平投影的两侧设置两个对称的导向孔(14A,14B)；

步骤S2：通过所述导向孔(14A,14B)测量所述水平井的实钻轨迹位置(11)相对于所述导向孔(14A,14B)在井底的相对准确位置(11A,11B)；

步骤S3：根据所述相对准确位置(11A,11B)以及测量得到的水平井的实钻轨迹位置(11)确定出实钻轨迹的真实位置(11C)；

步骤S4：根据所述真实位置(11C)不断调整实钻轨迹完成一次调整；

步骤S5：继续在所述气化通道轨迹(13)在地面水平投影的两侧设置两个对称的导向孔，经过上述相同的步骤完成二次调整，依次循环不断调整，最终使实钻轨迹与已设计的气化通道轨迹保持一致。

9.根据权利要求8所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述导向孔依次排列在所述水平井的实钻轨迹位置与所述对接导向孔之间。

10.根据权利要求8或9所述的水平井轨迹校正方法，其特征在于：所述导向孔的具体数量由水平井的水平段长度决定。