[发明专利]一种塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法有效
| 申请号： | 201510044189.9 | 申请日： | 2015-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN104630711B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 黄平;周青;王飞;徐可为 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/34 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 塑性 金属 纳米 cu ru 多层 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将单面抛光单晶硅基片分别用酒精和丙酮超声清洗，吹干后，放入超高真空磁控溅射设备基片台上，准备镀膜；
2)将需要溅射的金属靶材安置在靶材座上，通过调整中电源的功率控制靶的溅射率；采用高纯Ar作为离化气体，保证有效的辉光放电过程；
3)硅片溅射沉积时，采用直流和射频电源，溅射过程中，沉积速率为铜层每分钟10纳米，钌层每分钟7纳米；先在硅基体上用射频电源镀一层铜层，以这层铜层作为钌层生长的模板，在上面用直流电源镀一层钌层，这样交替沉积铜层和钌层形成多层膜，最终达到所需的厚度和层数，铜钌多层膜的单层厚度为1.5nm。
2.根据权利要求1所述的塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，薄膜中铜层和钌层的单层厚度，通过镀膜过程中铜层和钌层的沉积时间进行调节。
3.根据权利要求1所述的塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，将单面抛光单晶硅基片分别用酒精和丙酮超声清洗15分钟。
4.根据权利要求1所述的塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，铜钌多层膜的膜厚为500nm。
5.根据权利要求1所述的塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，在室温下用纳米压入衡量压缩塑性变形能力。
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