[发明专利]一种活塞连续真空灌装结构

权利要求书

1.一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：其包括一转盘（7）、架设于所述转盘（7）上方且与转盘（7）紧密贴合的连接板（3）、设置在所述转盘（7）上的多个活塞腔（18）、设置在所述活塞腔（18）内随所述转盘（7）转动的活塞（8）以及驱动所述活塞（8）顺次连续升降的活塞驱动机构，所述的多个活塞腔（18）在以转盘（7）的旋转中心为圆心的轨迹圆上均匀分布；

所述连接板（3）上设置有下料孔（19）和出料孔（20），所述下料孔（19）和出料孔（20）的圆心均位于所述活塞腔（18）的轨迹圆上；

所述连接板（3）上还设置有用于与真空发生装置连接的抽真空口（29），所述抽真空口（29）的位置与所述转盘（7）上待吸物料的活塞腔（18）对应。

2.根据权利要求1所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的活塞驱动机构限定所述的多个活塞腔（18）按其旋转方向依次分为下降区（101）、第一静止区（102）和上升区（103），所述抽真空口（29）位于所述下降区（101）正上方。

3.根据权利要求2所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述抽真空口（29）位于下降区（101）中部正上方或远离所述下料孔（19）一侧的正上方。

4.根据权利要求2所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的上升区（103）和所述下降区（101）之间设置有第二静止区（104）。

5.根据权利要求4所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述第二静止区（104）包括一个活塞腔（18）。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的活塞驱动机构包括设置于活塞（8）底部用于限定活塞上行的第一滚轮（17）和用于限定活塞（8）下行的第二滚轮（12），还包括与所述第一滚轮（17）下端接触的用于限定所述第一滚轮（17）上行的第一引导轨（5）以及与所述第二滚轮（12）上端接触的用于限定所述第二滚轮（12）下行的第二引导轨（10），所述的第一引导轨（5）的最高点限定所述活塞（8）运行到活塞腔（18）的顶部，所述第二引导轨（10）的最低点限定所述活塞（18）运行到所述活塞腔（18）的底部，所述第一引导轨（5）的最高点和最低点之间为平滑过渡的斜坡面，所述第二引导轨（10）的最高点和最低点之间为平滑过渡的斜坡面。

7.根据权利要求1-5任一项所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的活塞驱动机构包括设置于活塞（8）底部的第二滚轮（12）以及通过限定所述第二滚轮（12）运行轨迹来控制所述活塞（8）上下运行的引导轨道，所述引导轨道包括与所述第二滚轮（12）下端接触的用于限定所述第二滚轮（12）上行的第一引导轨（5）以及与所述第二滚轮（12）上端接触的用于限定所述第二滚轮（12）下行的第二引导轨（10），所述的第一引导轨（5）的最高点限定所述活塞（8）运行到活塞腔（18）的顶部，所述第二引导轨（10）的最低点限定所述活塞（8）运行到所述活塞腔（18）的底部，所述第一引导轨（5）的最高点和最低点之间为平滑过渡的斜坡面，所述第二引导轨（10）的最高点和最低点之间为平滑过渡的斜坡面。

8.根据权利要求1-5任一项所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的活塞驱动机构包括设置于活塞（8）底部用于限定活塞上行的第一滚轮（17）、用于限定活塞（8）下行的弹簧（22）以及与所述第一滚轮（17）下端接触的用于限定所述第一滚轮（17）上行的第一引导轨（5），所述的第一引导轨（5）的最高点限定所述活塞（8）运行到活塞腔（18）的顶部，所述第一引导轨（5）的最高点和最低点之间为平滑过渡的斜坡面，所述弹簧（22）套置于所述活塞（8）和所述转盘（7）的下端面之间。

9.根据权利要求1-5任一项所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的活塞驱动机构包括设置于所述转盘（7）下端面与所述活塞（8）等数的气缸（23），每一个活塞（8）底端与相对应的气缸（23）的气缸推杆连接。

10.根据权利要求1-5任一项所述的一种活塞连续真空灌装结构，其特征在于：所述的转盘（7）的下端面设置有与所述活塞（8）向适配的导向套（9）。