[发明专利]一种加速度计的Z轴结构及其生产方法

权利要求书

1.一种加速度计的Z轴结构，其特征在于：包括衬底(1)、固定电极(2)、质量块(3)，在所述衬底(1)的表面上设置有第一锚点(20)，所述固定电极(2)通过其端部连接在第一锚点(20)上，所述固定电极(2)通过第一锚点(20)悬置在衬底(1)上；在所述衬底(1)的表面上还设置有中间锚点(4)，所述质量块(3)通过中间锚点(4)悬置在固定电极(2)的上方，在所述质量块(3)、固定电极(2)上设置有多个通孔(6)。

2.根据权利要求1所述的Z轴结构，其特征在于：所述固定电极(2)与第一锚点(20)一体成型。

3.根据权利要求1所述的Z轴结构，其特征在于：所述第一锚点(20)邻近中间锚点(4)。

4.根据权利要求1所述的Z轴结构，其特征在于：所述固定电极(2)采用多晶硅材料制成。

5.根据权利要求1所述的Z轴结构，其特征在于：所述固定电极(2)的厚度在5μm以上。

6.根据权利要求1所述的Z轴结构，其特征在于：所述固定电极(2)的下表面还设置有加强结构。

7.根据权利要求6所述的Z轴结构，其特征在于：所述加强结构为网状结构。

8.一种Z轴结构的生产方法，其特征在于，包括以下步骤：

a、在衬底(1)上沉积第一牺牲层(7)，并在该第一牺牲层(7)上刻蚀出第一锚点、第一中间锚点的区域；

b、在第一牺牲层(7)上以及第一锚点、第一中间锚点的区域沉积固定电极层(a)；

c、在固定电极层(a)上刻蚀出与第一锚点(20)连接的固定电极(2)以及第一中间锚点(21)的图案，并在固定电极(2)上刻蚀出多个通孔(6)；

d、在固定电极(2)上以及第一中间锚点(21)的区域沉积第二牺牲层(8)；

e、将位于第一中间锚点(21)正上方的第二牺牲层(8)刻蚀掉；

f、在第二牺牲层(8)上方沉积质量块层，并在质量块层上刻蚀出质量块(3)、第二中间锚点(31)的图案，其中第二中间锚点(31)位于第一中间锚点(21)的正上方；并在质量块(3)上刻蚀出多个通孔(6)；

g、去掉第一牺牲层(7)、第二牺牲层(8)，形成Z轴结构。

9.根据权利要求8所述的生产方法，其特征在于：在所述步骤b、步骤c之间还包括将固定电极层(a)平整化成预定厚度的步骤。

10.根据权利要求8所述的生产方法，其特征在于：所述步骤f中，在将质量块层刻蚀出质量块(3)、第二中间锚点(31)的图案之前，还包括将质量块层平整化成预定厚度的步骤。