[发明专利]一种紫外线固化掩膜板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种紫外线固化掩膜板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底基板；

通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成掩膜层的图形；

其中，所述掩膜层的材料为具有阻挡紫外光作用的材料；

待固化膜层的面板上具有对位标识和选择标识，所述通过一次构图工艺在所述衬底基板上形成掩膜层的图形，包括：

在所述衬底基板上形成掩膜层材料薄膜；

通过一次构图工艺处理所述掩膜层材料薄膜，形成为第一掩膜层图形；其中，所述第一掩膜层图形为所述掩膜层上具有与所述对位标识和所述选择标识对应的图形；

处理所述第一掩膜层图形，形成与所述待固化膜层未覆盖区域对应的掩膜层图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺处理所述掩膜层材料薄膜，形成为第一掩膜层图形，包括：

在形成有掩膜层材料薄膜的基板上，涂布光刻胶；

利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，再对曝光后的光刻胶进行显影，显影后形成光刻胶完全保留区域和光刻胶完全去除区域；其中，所述光刻胶完全保留区域对应所述对位标识和选择标识的区域，其他区域为光刻胶完全去除区域；

去除位于光刻胶完全去除区域的掩膜层材料薄膜。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理所述第一掩膜层图形，形成与所述待固化膜层未覆盖区域对应的掩膜层图形，包括：

利用激光扫描设备，通过激光扫描工艺处理所述第一掩膜层图形，形成与所述待固化膜层未覆盖区域对应的掩膜层图形。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理所述第一掩膜层图形，形成与所述待固化膜层未覆盖区域对应的掩膜层图形，包括：

利用掩膜板处理所述第一掩膜层图形，形成紫外图形制作区；

利用激光扫描设备，通过激光扫描工艺处理所述紫外图形制作区，形成与所述待固化膜层未覆盖区域对应的掩膜层图形。