[发明专利]光声成像设备、光声成像方法和执行光声成像方法的程序有效

专利信息
申请号: 201510054993.5 申请日: 2011-03-14
公开(公告)号: CN104644127B 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 宫里卓郎 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;A61B8/00;G01N21/17
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 欧阳帆
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 设备 方法 执行 程序
【权利要求书】:

1.一种被检体信息获得设备,包括:

声学转换单元,被配置为接收通过利用光照射被检体而产生的声波并且将所述声波转换为电信号;以及

处理单元,被配置为基于关于被检体的表面的形状的信息和用于照射到被检体的光的强度分布来获得入射在被检体的表面上的光的照度分布,基于所述照度分布来获得被检体内的光强分布,以及基于所述电信号和所述被检体内的光强分布来获得被检体内的光学特性分布,

其中所述关于被检体的表面的形状的信息是关于被检体的表面的对于入射在被检体的表面上的光的倾斜度分布的信息。

2.根据权利要求1所述的被检体信息获得设备,其中,在被检体的表面的对于入射在被检体的表面上的光的倾斜度分布是θ的情况下,所述处理单元被配置为通过将用于照射到被检体的光的所述强度分布乘以cosθ而获得所述照度分布。

3.一种被检体信息获得设备,包括:

声学转换单元,被配置为接收通过利用光照射被检体而产生的声波并且将所述声波转换为电信号;以及

处理单元,被配置为基于关于被检体的表面的形状的信息和用于照射到被检体的光的强度分布来获得入射在被检体的表面上的光的照度分布,基于所述照度分布来获得被检体内的光强分布,以及基于所述电信号和所述被检体内的光强分布来获得被检体内的光学特性分布,

其中被检体的表面的形状由被检体的深度方向上的位置、在与所述深度方向正交的向内方向上的位置以及与表面的倾斜度表示。

4.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,还包括测量单元,所述测量单元被配置为测量被检体的表面的形状,

其中所述处理单元被配置为基于所述测量单元的输出来获得所述关于被检体的表面的形状的信息。

5.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,还包括图像拾取装置,所述图像拾取装置被配置为获得被检体的图像数据,

其中所述处理单元被配置为基于由所述图像拾取装置获得的所述图像数据来获得所述关于被检体的表面的形状的信息。

6.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,其中所述处理单元被配置为基于所述电信号来获得所述关于被检体的表面的形状的信息。

7.根据权利要求6所述的被检体信息获得设备,其中所述处理单元被配置为基于所述电信号来获得图像数据,并且基于所述图像数据来获得所述关于被检体的表面的形状的信息。

8.根据权利要求7所述的被检体信息获得设备,其中所述处理单元被配置为获取初始声压分布作为所述图像数据,以及

其中所述处理单元被配置为基于所述初始声压分布提取具有比预定阈值大的初始声压值的部分作为被检体的表面,并且基于所提取的部分来获得所述关于被检体的表面的形状的信息。

9.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,还包括被配置为固定被检体的固定部件。

10.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,其中所述处理单元被配置为保持入射在被检体的表面上的光的照度分布的多个数据项,通过基于所述关于被检体的表面的形状的信息选择数据项中的一个,来获得入射在被检体的表面上的光的照度分布。

11.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,还包括被配置为发射所述光的光源。

12.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,还包括显示单元,

其中所述处理单元被配置为在显示单元上显示基于所述光学特性分布的图像。

13.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,其中所述光的波长为大于或等于500nm并且小于或等于1200nm。

14.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,其中所述处理单元被配置为获得被检体内的光吸收系数分布作为被检体内的光学特性分布。

15.根据权利要求1-3中的任一项所述的被检体信息获得设备,其中所述声学转换单元包括至少一个使用电容变化的换能器。

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