[发明专利]溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201510056784.4 | 申请日： | 2015-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN104818459B | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | 远藤瑶辅 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;杨生平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
1.一种溅射靶的制造方法，其中，
通过铸造，将由铟构成的靶主体，经由铟基础层接合到由不锈钢、钛或铝中的任一种材质构成的衬管或衬板的表面上，来制造溅射靶，
在衬管或衬板的表面形成铟基础层，之后，在实施靶主体的铸造之前，在非氧化环境下对附着有铟基础层的衬管或衬板进行预加热，
在靶主体的铸造用铸模内配置有衬管或衬板的状态下进行所述预加热，并从该预加热开始到靶主体的铸造结束，一直维持非氧化环境，
在衬管或衬板的表面事先进行表面处理，使所述衬管或衬板的、与靶主体之间的接合表面的表面粗糙度Ra为4.0μm以上。
2.根据权利要求1所述的溅射靶的制造方法，其中，
所述靶主体还含有选自Ni、Fe、Cr、Ti、Al、Si的至少一种，并且每种含量均为10wtppm以下。
3.一种溅射靶，是通过权利要求1所述的溅射靶的制造方法制造的溅射靶，
所述溅射靶由不锈钢、钛或铝的任一种材质构成的衬管或衬板与铟构成的靶主体的双层结构构成，使通过超声波探伤测定的所述衬管或衬板与靶主体之间的粘接率为95％以上，使所述衬管或衬板的、与靶主体之间的接合表面的表面粗糙度Ra为4.0μm以上。
4.根据权利要求3所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Ni、Fe、Cr、Ti、Al、Si的至少一种，并且每种含量均为10wtppm以下。
5.根据权利要求3所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Cu、Ga的至少一种，并且每种含量均为10000wtppm以下。
6.根据权利要求4所述的溅射靶，其中，所述靶主体还含有选自Cu、Ga的至少一种，并且每种含量均为10000wtppm以下。
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