[发明专利]基于三相磨粒流的超光滑表面精密流体圆盘抛光装置有效

专利信息
申请号: 201510056821.1 申请日: 2015-02-03
公开(公告)号: CN104786128B 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 计时鸣;谭云峰;葛江勤;谭大鹏;赵军 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙)33213 代理人: 吴秉中
地址: 310014 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 三相 磨粒流 光滑 表面 精密 流体 圆盘 抛光 装置
【权利要求书】:

1.基于三相磨粒流的超光滑表面流体精密圆盘抛光装置,其特征在于:包括圆盘形抛光工具(1)和工件装夹台(7),被加工工件(6)装夹在工件装夹台(7)上,圆盘形抛光工具(1)固定安装在工件装夹台(7)的正上方,所述圆盘形抛光工具(1)与被加工工件(6)的上表面形成大面积的微距缝隙;所述圆盘形抛光工具(1)设有内腔,所述圆盘形抛光工具(1)的顶面设有与上述内腔连通的用于注入抛光磨粒的磨粒注入通道(4);所述圆盘形抛光工具(1)的侧面设有对称分布的抛光液注入孔通道(3),所述抛光液注入孔通道(3)与上述内腔连通并用于向上述内腔中注入抛光液;所述圆盘形抛光工具(1)的内腔侧面还设有微尺寸气泡发生器(5)。

2.根据权利要求1所述的基于三相磨粒流的超光滑表面流体精密圆盘抛光装置,其特征在于:所述圆盘形抛光工具(1)的侧面还设有均匀分布的至少两个气流注入通道(2),所述气流注入通道(2)与所述内腔连通并用于向所述内腔注入高速气流。

3.根据权利要求1所述的基于三相磨粒流的超光滑表面流体精密圆盘抛光装置,其特征在于:所述磨粒注入通道(4)设有四个,四个磨粒流注入通道均匀分布在圆盘形抛光工具(1)的顶面。

4.根据权利要求1所述的基于三相磨粒流的超光滑表面流体精密圆盘抛光装置,其特征在于:所述抛光液注入孔通道(3)设有四个,四个抛光液注入孔通道(3)均匀分布在圆盘形抛光工具(1)的侧面上。

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