[发明专利]上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法

权利要求书

1.一种触控显示面板用上基板的制备方法，包括在第一衬底基板上形成黑矩阵和触控电极，其特征在于，所述形成黑矩阵和触控电极包括：

通过一次构图工艺形成所述黑矩阵，其中，在显示区所述黑矩阵与相邻两个所述触控电极之间的间隙对应；

在形成有所述黑矩阵的基板上形成负性感光型有机树脂薄膜，并以所述黑矩阵为掩膜，进行曝光和显影，使与所述黑矩阵对应的所述有机树脂薄膜去除掉，形成有机树脂层；

在所述有机树脂层上方形成透明导电薄膜，其中，位于所述有机树脂层上方的透明导电薄膜与位于所述黑矩阵上方的透明导电薄膜断开，且位于所述有机树脂层上方的透明导电薄膜形成所述触控电极，位于所述黑矩阵上方的透明导电薄膜形成保留图案。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述以所述黑矩阵为掩膜，进行曝光和显影，使与所述黑矩阵对应的所述有机树脂薄膜去除掉，形成有机树脂层，包括：

以所述黑矩阵为掩膜，进行曝光和显影，使与所述黑矩阵对应的所述有机树脂薄膜去掉，且去除掉的所述有机树脂薄膜靠近所述第一衬底基板的下表面面积大于远离所述第一衬底基板的上表面的面积，形成所述有机树脂层。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在形成有所述黑矩阵的基板上形成负性感光型有机树脂薄膜，包括：

在所述黑矩阵上方形成所述负性感光性有机树脂薄膜；或者，

在所述第一衬底基板相对所述黑矩阵的另一侧形成所述负性感光性有机树脂薄膜。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述触控电极上方形成覆盖所述第一衬底基板的保护层。

5.一种触控显示面板的制备方法，包括形成阵列基板和上基板；其特征在于，通过权利要求1至4任一项所述的制备方法形成所述上基板。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述形成阵列基板包括：

形成包括彩色滤光层的阵列基板。

7.一种触控显示面板用上基板，包括设置在第一衬底基板上的黑矩阵和触控电极；其特征在于，在显示区所述黑矩阵与相邻两个所述触控电极之间的间隙对应；

所述上基板还包括：有机树脂层和保留图案；

其中，所述有机树脂层位于所述第一衬底基板和所述触控电极之间，并在所述黑矩阵上方断开，且所述有机树脂层为负性感光型有机树脂层；所述保留图案位于所述有机树脂层的断开处且与所述触控电极材料相同。

8.根据权利要求7所述的上基板，其特征在于，被断开的所述有机树脂层的靠近所述第一衬底基板的下表面面积小于远离所述第一衬底基板的上表面的面积。

9.根据权利要求7所述的上基板，其特征在于，所述黑矩阵和所述有机树脂层设置在所述第一衬底基板的同一侧；或者，

所述黑矩阵和所述有机树脂层设置在所述第一衬底基板的不同侧。

10.根据权利要求7所述的上基板，其特征在于，所述上基板还包括：设置在所述触控电极上方且覆盖所述第一衬底基板的保护层。

11.一种触控显示面板，包括阵列基板和上基板；其特征在于，所述上基板为权利要求7至10任一项所述的上基板。

12.根据权利要求11所述的触控显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括彩色滤光层。

13.根据权利要求11所述的触控显示面板，其特征在于，所述上基板的第一衬底基板靠近所述阵列基板设置；或者，

所述上基板的触控电极靠近所述阵列基板设置。