[发明专利]一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种掩膜装置，所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，其特征在于，所述掩膜装置还包括：

设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面。

2.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，每个所述保护单元包括升降体和用于控制所述升降体在垂直方向上升降的控制模块。

3.根据权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述控制模块包括与所述升降体连接的马达，

所述马达，用于控制所述升降体在垂直方向上升降。

4.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述控制模块还包括与所述升降体连接的光电感应器，

所述光电感应器，用于检测所述光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体的下端低于所述掩膜板的下表面，所述升降体的下端为所述保护单元的下端。

5.根据权利要求3或4所述的掩膜装置，其特征在于，

所述掩膜承载体上设置有开口，所述保护单元设置于所述开口内，所述马达固定在所述开口的内壁上。

6.根据权利要求5所述的掩膜装置，其特征在于，

所述控制模块中的马达的数量为两个，两个马达分别设置于所述升降体的两端。

7.根据权利要求4所述的掩膜装置，其特征在于，所述升降体包括载体和设置于所述载体的下表面的凸起，

所述控制模块中的光电感应器的数量为两个，两个光电感应器分别设置于所述载体的下表面，并且设置在所述凸起的两端。

8.根据权利要求7所述的掩膜装置，其特征在于，

所述凸起在第一方向上的长度大于等于所述掩膜板在所述第一方向上的长度，其中，所述第一方向为所述两个光电感应器之间连线的方向。

9.根据权利要求7或8所述的掩膜装置，其特征在于，

所述凸起的形状为楔形。

10.一种曝光装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括控制系统、升降体，以及与所述控制系统和所述升降体均连接的马达和光电感应器，

所述控制系统，用于根据所述光电感应器检测到的所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；且若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于0。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统，还用于计算掩膜板的最大下垂量；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。

13.一种利用如权利要求10-12任一项所述的曝光装置进行曝光的方法，其特征在于，包括：

在垂直方向上，移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置，其中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面；

依次在水平方向上，移动所述曝光台，以使得所述曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到所述掩膜板的下方曝光。