[发明专利]一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜有效

专利信息
申请号: 201510058599.9 申请日: 2015-02-04
公开(公告)号: CN104669745B 公开(公告)日: 2016-10-19
发明(设计)人: 谈论;李志远;张志华 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: B32B27/08 分类号: B32B27/08;B32B27/36;B32B27/40;B32B9/04;E04B1/74;E04B1/92
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 王小荣
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 光子 晶体 建筑物 环保 制冷
【权利要求书】:

1.一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,该制冷贴膜自上而下依次包括抗刮耐磨层、上基材层、光子晶体制冷层及下基材层,所述的抗刮耐磨层为聚氨酯抗刮耐磨层,所述的上基材层与下基材层均为聚对苯二甲酸乙二醇酯基材层,其特征在于,所述的光子晶体制冷层由第一复合层、第二复合层、第三复合层及第四复合层自上而下依次堆叠而成,结构式为(AB)4(CD)4(EF)4(GH)4,所述的第一复合层由4层A介质层与4层B介质层相互交替叠加组合成(AB)4型复合结构,所述的第二复合层由4层C介质层与4层D介质层相互交替叠加组合成(CD)4型复合结构,所述的第三复合层由4层E介质层与4层F介质层相互交替叠加组合成(EF)4型复合结构,所述的第四复合层由4层G介质层与4层H介质层相互交替叠加组合成(GH)4型复合结构,所述的A介质层、C介质层、E介质层及G介质层分别为厚度依次增加的二氧化硅介质层,所述的B介质层、D介质层、F介质层及H介质层分别为厚度依次增加的二氧化钛介质层。

2.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的光子晶体制冷层的总厚度为2.32-2.352μm。

3.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的二氧化硅介质层的折射率为1.45。

4.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛,该锐钛矿型二氧化钛的折射率为2.65。

5.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的第一复合层中A介质层的厚度为51-52nm,B介质层的厚度为28-29nm。

6.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的第二复合层中C介质层的厚度为75-76nm,D介质层的厚度为41-42nm。

7.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的第三复合层中E介质层的厚度为103-104nm,F介质层的厚度为56-57nm。

8.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的第四复合层中G介质层的厚度为146-147nm,H介质层的厚度为80-81nm。

9.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的抗刮耐磨层的厚度为2-4μm。

10.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜,其特征在于,所述的上基材层与下基材层的厚度相等,并且所述的上基材层的厚度为30-48μm。

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