[发明专利]曝光方法以及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，藉由使用投影光学系统通过液体把规定图案的像投影到基板上来曝光所述基板，所述曝光方法包括：

将所述液体供给到包含所述投影光学系统的投影区域的所述基板的一部分上，以形成液浸区域，所述液体具有针对配置在所述投影光学系统的端部处的液体接触表面的亲和性，并且所述亲和性是比针对所述基板的表面的亲和性还高；以及

透过供给到所述液浸区域的所述液体将所述规定图案的所述像投影到所述基板。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中配置在所述投影光学系统的所述端部处的所述液体接触表面是亲液表面。

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其中所述基板的表面是涂布防水性的ArF准分子激光用的感光材料。

4.根据权利要求1所述的曝光方法，其中所述液体供给到所述基板上，并且回收在所述基板上的所述液体，使得覆盖所述基板的所述表面的一部分的所述液浸区域在所述基板的曝光期间形成。

5.根据权利要求1至4的任一项所述的曝光方法，其中所述液体是水。

6.一种用于制造装置的方法，包括使用权利要求1至5的任一项所述的曝光方法来曝光晶圆。

7.一种曝光装置，通过液体把规定图案的像投影到基板上来顺利地曝光所述基板，所述曝光装置包括：

投影光学系统，将所述图案的所述像投影到所述基板上；

液体供给机构，供给所述液体以在包含所述投影光学系统的投影区域的所述基板的表面一部分上形成液浸区域；以及

液体回收机构，回收从所述液体供给机构所供给的所述液体，

其中，所述液体具有针对配置在所述投影光学系统的端部处的液体接触表面的亲和性，并且针对所述液体接触表面的所述液体的所述亲和性是比针对所述基板的所述表面的所述液体的亲和性还高。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中所述液体供给机构经由供给口供给所述液体，以及所述液体回收机构经由回收口回收所述液体，排列所述供给口和所述回收口，使得所述基板相对于所述供给口和所述回收口，并且使得所述供给口位在所述回收口和所述投影区域之间。

9.根据权利要求7所述的曝光装置，其中所述液体供给机构将所述液体供给到所述基板上，同时藉由所述液体回收机构执行所述液体的回收，使得覆盖所述基板的所述表面的一部分的所述液浸区域在所述基板的曝光期间形成。

10.根据权利要求7所述的曝光装置，其中所述液体供给机构供给一液体量，所述液体量是依据要执行的所述曝光装置的操作来被供给。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中当移动所述基板时，在所述基板上的拍摄区域分别经历扫描曝光，并且操作所述液体供给机构，使得所述液体的所述供给量在所述基板上的所述拍摄区域中的二个拍摄区域之间执行步进移动的期间与所述拍摄区域各自曝光的期间是不同的。

12.根据权利要求7所述的曝光装置，其中所述液体供给机构具有供给口，以及所述液体回收机构具有回收口，并且其中所述供给口与所述基板的所述表面间的距离是不同于所述回收口与所述基板的所述表面间的距离。

13.根据权利要求8所述的曝光装置，其中所述供给口与所述基板的所述表面间的距离是不同于所述回收口与所述基板的所述表面间的距离。

14.根据权利要求7至13的任一项所述的曝光装置，其中所述液体是水。

15.一种用于制造装置的方法，包括使用权利要求7至14的任一项所述的曝光装置来曝光晶圆。