[发明专利]一种钯铜合金薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种钯铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

1)、选316L不锈钢作为基体，基体表面经砂纸研磨并抛光后，分别用乙醚、酒精和蒸馏水超声波器清洗，烘干后沉积薄膜；

2)、沉积薄膜设备选用磁控共溅射镀膜系统，纯金属钯和纯金属铜同时对准上方中心处的基体，镀膜前先将真空室抽真空，然后通入高纯氩气；通过计算机精确控制靶材上挡板的打开时间进行沉积钯薄膜和铜薄膜，其沉积工艺条件为：钯靶功率50-150瓦，铜靶功率40-100瓦；基体负偏压0-150伏，靶材与基体的距离5-10厘米，工作气压0.2-1帕，基体温度为室温-500摄氏度，基体自转速度为5-25转每分钟，镀膜结束后样品随炉冷却至室温；

3)、钯铜薄膜合金化的设备选用电加热管式气氛炉，所获得的上述样品放入气氛炉中，在氩气气氛以1摄氏度每分钟速率程序升温到450-600摄氏度，保持5-10小时后随炉冷却到室温即可。

2.根据权利要求1所述的一种钯铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述的316L不锈钢基体表面抛光至0.5微米，再分别用乙醚、酒精和蒸馏水超声波清洗20分钟。

3.根据权利要求1所述的一种钯铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述的沉积薄膜前先将真空室抽真空至3×10-4帕，然后在通入高纯氩气，在316L不锈钢基体上先沉积金属钯薄膜。

4.根据权利要求1所述的一种钯铜合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述电加热管式气氛炉中的氩气分压10千帕，薄膜样品随气氛炉冷却至室温。