[发明专利]等离子体处理容器和等离子体处理装置有效
申请号: | 201510062189.1 | 申请日: | 2009-04-09 |
公开(公告)号: | CN104681388B | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 出口新悟 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 容器 装置 | ||
1.一种等离子体处理容器,其形成收纳被处理体而进行等离子体处理的处理室,其特征在于,具有:
接合多个容器构成部件而形成的容器主体;
配设在所述容器构成部件间的接合部分的第一密封部件;
安装在所述容器主体的内面而保护所述容器主体的能够拆装的保护部件,
在所述容器构成部件间的接合部分设有通过将所述保护部件从所述处理室内部插入直至到达所述第一密封部件的位置、由此遮断等离子体或腐蚀性气体或者其两者、并使所述第一密封部件和所述保护部件在整个圆周抵接而进行密封的第一密封部,
以包围所述第一密封部件和所述保护部件的周缘部的方式在该第一密封部件和所述保护部件的周缘部的外侧设有在所述容器构成部件间直接介入第二密封部件的第二密封部,所述保护部件的周缘部位于所述第一密封部件与所述第二密封部件之间,
通过所述第一密封部遮断等离子体以及/或者腐蚀性气体,通过所述第二密封部维持所述容器主体的气密性。
2.如权利要求1所述的等离子体处理容器,其特征在于,
所述保护部件嵌入在形成于所接合的两个部件中的一个部件的凹部中,使所述部件间的接合面和所述保护部件的表面形成为同一面,所述第一密封部件和所述第二密封部件嵌入在分别设置于所述所接合的两个部件中的另一个部件的槽部。
3.一种等离子体处理容器,其形成收纳被处理体而进行等离子体处理的处理室,其特征在于,具有:
接合多个容器构成部件而形成的容器主体;
配设在所述容器构成部件间的接合部分的第一密封部件;
安装在所述容器主体的内面而保护所述容器主体的能够拆装的保护部件;
在所述容器构成部件间的接合部分,以包围所述第一密封部件和所述保护部件的周缘部的方式在所述第一密封部件和所述保护部件的周缘部的外侧配设的第二密封部件,所述第一密封部件和所述第二密封部件嵌入在分别设置于所接合的两个部件中的一个部件的槽部,
在所述容器构成部件间的接合部分设有:通过将所述保护部件从所述处理室内部插入直至到达所述第一密封部件的位置、由此遮断等离子体或腐蚀性气体或者其两者、并使所述第一密封部件和所述保护部件抵接而进行密封的第一密封部;和在所述容器构成部件间直接介入所述第二密封部件的第二密封部,所述保护部件的周缘部位于所述第一密封部件与所述第二密封部件之间,
通过所述第一密封部遮断等离子体以及/或者腐蚀性气体,通过所述第二密封部维持所述容器主体的气密性。
4.如权利要求3所述的等离子体处理容器,其特征在于,
所述保护部件嵌入在形成于所述所接合的两个部件中的另一个部件的凹部中,使所述部件间的接合面和所述保护部件的表面形成为同一面。
5.一种等离子体处理装置,其特征在于,具有权利要求1~4中任一项所述的等离子体处理容器。
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