[发明专利]快速获得阻挡层形貌的样品制备方法有效

专利信息
申请号: 201510063210.X 申请日: 2015-02-06
公开(公告)号: CN104614216B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 刘君芳;仝金雨;李桂花;郭伟;李品欢 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/32
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅,李时云
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 快速 获得 阻挡 形貌 样品 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,包括步骤:

提供初级样品,所述初级样品设有待透射的两侧边和非透射的两侧边,所述初级样品包括介质层、金属导线和阻挡层,所述阻挡层形成在所述介质层上,所述金属导线形成在所述阻挡层上,所述金属导线和所述介质层之间由所述阻挡层隔离,所述介质层包围所述金属导线和阻挡层;

在所述初级样品表面形成支撑层,所述支撑层位于所述金属导线和阻挡层上方;

对所述初级样品进行减薄处理,使所述待透射的两侧边暴露出部分所述金属导线的侧壁;

对所述初级样品进行化学药物浸泡,去除所述金属导线,暴露出所述阻挡层。

2.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述支撑层的材质为铂或氧化硅。

3.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述支撑层的厚度范围是1.5微米~2.5微米。

4.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述减薄处理包括步骤:

挖除所述初级样品待透射的两侧边的部分介质层;

对所述初级样品第一待透射边的部分介质层和支撑层进行挖除,直至暴露出部分金属导线的侧壁;

将所述初级样品旋转180度,对所述初级样品第二待透射边的部分介质层和支撑层进行挖除,直至暴露出部分金属导线的侧壁,并确保所述支撑层未被挖断。

5.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述金属导线材质为铜。

6.如权利要求5所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述阻挡层材质为钽。

7.如权利要求6所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,所述化学药物是体积比浓度为70%的硝酸。

8.如权利要求7所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,浸泡时间范围是5s~10s。

9.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,对所述初级样品进行化学药物浸泡后,用清水对所述初级样品进行漂清处理。

10.如权利要求1所述的快速获得阻挡层形貌的样品制备方法,其特征在于,在对所述初级样品进行化学药物浸泡后,采用FIB对所述初级样品的非透射的两侧边进行切断,保留暴露出阻挡层的部分,获得最终的样品。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510063210.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top