[发明专利]一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

权利要求书

1.一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室(1)、开卷室(2)、设于开卷室(2)内的开卷机构(201)、收卷室(9)、设于收卷室(9)内的收卷机构(901)和设于真空室(1)内的冷辊(8)，其特征在于：还包括纠偏装置(3)、两个或两个以上的回转换靶装置(10)、以及与每个回转换靶装置(10)位置相对应的两面开口的阴极小室(11)，所述的开卷室(2)与真空室(1)之间、收卷室(9)与真空室(1)之间均设有闸板阀(4)，所述的开卷机构(201)和收卷机构(901)之间的基带(5)经过换向辊(7)换向后包覆在冷辊(8)上，所述的开卷机构(201)和收卷机构(901)处各设有一组纠偏装置(3)，且所述的纠偏装置(3)位于开卷室(2)和收卷室(9)内；所述的阴极小室(11)分布于冷辊(8)包覆有基带(5)的圆周面上，且每组回转换靶装置(10)及与其对应的阴极小室(11)均与冷辊(8)设于同一轴线上；所述的回转换靶装置(10)包括机座(1001)、回转盘(1004)、驱动回转盘(1004)转动的回转机构、驱动回转盘(1004)沿轴向伸缩的轴向伸缩机构(1002)、安装于回转盘(1004)上的两个或两个以上的伸缩轴套(1005)、安装于伸缩轴套(1005)上的用于安装靶芯(12)的极靶座板(1006)和安装于机座(1001)上且与阴极小室(11)的开口方向相对的径向伸缩机构(1007)，所述的回转盘(1004)为设有内腔的桶状结构，所述的伸缩轴套(1005)安装于回转盘(1004)的侧壁上，当轴向伸缩机构(1002)收缩后，所述的径向伸缩机构(1007)刚好与一个伸缩轴套(1005)相对应，用于将极靶座板(1006)向外顶出并嵌入阴极小室(11)内；所述的开卷机构(201)和收卷机构(901)带动基带(5)实现往复运动。

2.根据权利要求1所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的伸缩轴套(1005)包括内轴(1008)、中间轴套(1009)和外轴套(1010)，所述的内轴(1008)设于中间轴套(1009)内，且内轴(1008)与中间轴套(1009)之间设有第一压缩弹簧(1011)，所述的中间轴套(1009)设于外轴套(1010)内，且中间轴套(1009)与外轴套(1010)之间设有第二压缩弹簧(1012)，所述的外轴套(1010)固定安装于回转盘(1004)上。

3.根据权利要求2所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的轴向伸缩机构(1002)上还设置有三节筒式导轨(1003)。

4.根据权利要求3所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的轴向伸缩机构(1002)和径向伸缩机构(1007)均为电动推杆，所述的回转机构为步进电机。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的回转换靶装置(10)及与其对应设置的阴极小室(11)设有3组。

6.根据权利要求5所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：相邻两个所述的阴极小室(11)之间设有气氛隔离板(13)。

7.根据权利要求6所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的纠偏装置(3)为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。

8.根据权利要求7所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的开卷机构(201)与冷辊(8)之间还设置有前处理装置(6)，所述的前处理装置(6)包括离子源预处理机构，所述的离子源预处理机构设置于真空室(1)内，用于清洗基带(5)表面的污物。

9.根据权利要求8所述的一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：还包括冷井盘管深冷机构，所述的冷井盘管深冷机构设置于真空室(1)内，用于冷凝对基带(5)前处理过程中释放的大量水汽。