[发明专利]电磁控溅镀阴极有效
| 申请号： | 201510070776.5 | 申请日： | 2015-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN104831246B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 郑兆希 | 申请（专利权）人： | 兆阳真空动力股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 贾磊 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电磁 控溅镀 阴极 | ||
1.一种电磁控溅镀阴极，其特征在于，该磁控溅镀阴极包括：
一导磁基板；
一封闭排列的第一永久磁铁环，座于该导磁基板的外圈上；
一封闭排列的第二永久磁铁环，座于该导磁基板的中线上，该第二永久磁铁环与该第一永久磁铁环的N极相对于靶面为相反方向；
封闭的电磁线圈设于该导磁基板上，且形成于该封闭排列的第一永久磁铁环及该封闭排列的第二永久磁铁环之间，且相对于该第二永久磁铁环而言；该电磁线圈邻接该第一永久磁铁环，该电磁线圈导入的电流周期变化以变化电浆团的位置以轰击靶材；
一冷却铜底板设于该第二永久磁铁环、该第一永久磁铁环所包围的空间内且介于该封闭的电磁线圈及靶材之间；及
一靶材设于该冷却铜底板上。
2.如权利要求1所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述导磁基板为单位阶梯形，该单位阶梯形为中间段有一相对较高的平台，所述的封闭排列的第二永久磁铁环座于该平台中线上，以支撑该冷却铜底板，该导磁基板的平台部位的下方容置一冷却水路。
3.如权利要求1所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述导磁基板上还包含至少一支撑柱，该支撑柱高度与该电磁线圈高度大致相等或略高，以使得该冷却铜底板为该支撑柱所支撑。
4.如权利要求1所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述电磁线圈范围在靶外缘到距靶宽2/3之间。
5.如权利要求1所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述电磁线圈范围在靶材中线到距靶宽2/3之间。
6.一种电磁控溅镀阴极，其特征在于，该磁控溅镀阴极包括：
一导磁基板，该导磁基板为单位阶梯形，该单位阶梯形为中间段有一相对较高的平台；
一封闭排列的第一永久磁铁环，座于该导磁基板的外圈上；
一封闭排列的第二永久磁铁环，座于该导磁基板之平台的中线上，该第二永久磁铁环与该第一永久磁铁环的N极相对于靶面为相反方向；
封闭的电磁线圈设于该导磁基板上，且形成于该封闭排列的第一永久磁铁环及该封闭排列的第二永久磁铁环之间，且相对于该第二永久磁铁环而言；该电磁线圈邻接该第一永久磁铁环，该电磁线圈导入的电流周期变化以变化电浆团的位置以轰击靶材；
一冷却铜底板设于该第二永久磁铁环、该第一永久磁铁环所包围的空间内且介于该封闭的电磁线圈及靶材之间；及
一靶材设于该冷却铜底板上。
7.如权利要求6所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述电磁线圈范围在靶外缘到距靶宽2/3之间。
8.如权利要求6所述的电磁控溅镀阴极，其特征在于，所述电磁线圈范围在靶材中线到距靶宽2/3之间。
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