[发明专利]感光性元件

说明书

本发明涉及一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，支撑膜的雾度为0.01～1.0％，全光线透过率大于或等于90％，感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。

技术领域

本发明涉及一种感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。

背景技术

以前，在印刷配线板的制造领域和金属的精密加工领域中，作为用于蚀刻、镀敷等的抗蚀剂材料，广泛使用由感光性树脂组合物形成的层(以下称为“感光层”)、支撑膜和保护膜所构成的感光性元件。

印刷配线板例如如下操作进行制造。首先，将感光性元件的保护膜从感光层剥离后，在电路形成用基板的导电膜上层压感光层。接着，对感光层实施图案曝光，然后使用显影液将未曝光部分除去，形成抗蚀剂图案。然后，基于该抗蚀剂图案，实施蚀刻处理或者镀敷处理，对导电膜进行图案化，从而形成印刷配线板。

作为除去该未曝光部分所使用的显影液，主要使用碳酸钠溶液等碱显影型。显影液通常只要一定程度具有溶解感光层的能力即可，显影时感光层溶解于显影液中或者分散于显影液中。

近年来随着导电膜的图案化进行微细化，对感光性元件的感光层要求与电路形成用基板的密合性和抗蚀剂图案形成时的分辨率优异。

通常在使用感光性元件形成抗蚀剂时，将感光层层压在基板上后，不剥离支撑膜而进行曝光。为了应对这样的曝光处理，只要支撑膜采用光透过性的材料即可。另外，为了得到图案形成时的高分辨率，必须使支撑膜尽可能薄。另一方面，为了在支撑膜上以均匀的厚度成品率良好地涂布感光性树脂组合物，要求支撑膜有一定程度的厚度(通常10μm～30μm)。另外，为了提高支撑膜的生产率，即为了提高支撑膜的卷绕性，通常使支撑膜中含有无机粒子或者有机粒子。因此，以前的支撑膜有如下倾向：雾度增大，因支撑膜所含有的粒子导致曝光时发生光散射，不能满足感光性膜的高分辨率化要求。

作为实现高分辨率化的方法，有在曝光前将感光性元件所具有的支撑膜剥离，不隔着支撑膜进行曝光的方法。在这种情况下，也有时在感光层上直接密合光具。然而，由于感光层通常具有一定程度的粘着性，因此在使光具直接密合于感光层上进行曝光的情况下，除去密合的光具变得困难。另外，光具因感光层而受到污染、或者由于将支撑膜剥离而使感光层暴露在大气中的氧中，导致光灵敏度容易降低。

为了改善上述方面，提出了各种方法。例如，在日本特开平07-333853号公报、国际公开第2000/079344号和日本特许第4905465号公报中，提出了如下方案：通过将支撑膜中所含的粒子的粒径、支撑膜的雾度等设为特定的范围内，从而形成分辨率等优异的抗蚀剂图案。

发明内容

近年来在具有极微细配线的印刷配线板的制造领域中，投影式曝光机的使用增加。使用投影式曝光机的情况，与以前所使用的接触式曝光机相比，有曝光照度提高、曝光时间变短的倾向。但如果使用投影式曝光机中高性能的投影式曝光机、即开口数(也称为“投影镜头的亮度”)小的投影式曝光机，则有时在显影后的抗蚀剂图案上产生针孔。

本发明是鉴于上述情况而完成的发明，目的在于提供一种即使在使用了开口数小的投影式曝光机的情况下，也能够充分抑制针孔产生的感光性元件。

本发明提供一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，支撑膜的雾度为0.01～1.0％、且支撑膜的全光线透过率大于或等于90％，感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。

本发明另外提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其包含如下工序：使用上述感光性元件在电路形成用基板上形成感光层的感光层形成工序；对感光层的规定部分照射活性光线形成光固化部的曝光工序；以及将光固化部以外的未曝光部除去的显影工序。