[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201510075482.1 | 申请日: | 2015-02-12 |
公开(公告)号: | CN105448906A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 生野徹 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/866 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王成坤;胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,具备:
第1导电型的第1半导体区域;
第1电极,设置在所述第1半导体区域之下;
第2导电型的第2半导体区域,选择性地设置在所述第1半导体区域之上;
第1导电型的第3半导体区域,选择性地设置在所述第2半导体区域之上;
第2电极,隔着第1绝缘膜而设置在所述第1半导体区域、所述第2半导体区域及所述第3半导体区域;
第1整流元件,隔着第2绝缘膜设置在未配置所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极的所述第1半导体区域之上,并具有交替地排列有第4半导体区域、及导电型与所述第4半导体区域不同的第5半导体区域的构造;
第2整流元件,隔着所述第2绝缘膜设置在未配置所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极并且未配置所述第1整流元件的所述第1半导体区域之上,并具有交替地排列有第6半导体区域、及导电型与所述第6半导体区域不同的第7半导体区域的构造;
第3电极,设置在所述第1半导体区域的上侧,与所述第3半导体区域电连接,并与所述第1整流元件的所述第4半导体区域中的任一个第4半导体区域及所述第2整流元件的所述第6半导体区域的任一个第6半导体区域电连接;以及
第4电极,设置在所述第1半导体区域的上侧,与所述第2电极电连接,包围所述第3电极,与所述第1整流元件的所述任一个第4半导体区域以外的所述第4半导体区域、及所述第2整流元件的所述任一个第6半导体区域以外的所述第6半导体区域电连接。
2.如权利要求1所述的半导体装置,
所述第4半导体区域及所述第6半导体区域的导电型是第1导电型,所述第5半导体区域及所述第7半导体区域的导电型是第2导电型。
3.如权利要求1所述的半导体装置,
所述第4半导体区域及所述第6半导体区域的导电型是第2导电型,所述第5半导体区域及所述第7半导体区域的导电型是第1导电型。
4.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
所述第1整流元件与配置有所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极的区域并列配置。
5.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
所述第2整流元件沿着配置有所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极的区域配置。
6.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
所述第4半导体区域及所述第5半导体区域配置成环状。
7.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
所述第6半导体区域及所述第7半导体区域沿着配置有所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极的区域配置。
8.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
配置有所述第2半导体区域、所述第3半导体区域、所述第1绝缘膜及所述第2电极的区域具有至少一个角部,
所述第2整流元件具有沿着所述角部弯曲的区域。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的