[发明专利]一种光罩、其制作方法及基板图案的制作方法

说明书

本发明提供了一种光罩，包括：一基材；设置在所述基材上的有机膜层，其中，所述有机膜层在紫外偏振光的照射下，能够定向排列；其中，所述光罩具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域与第二区域的偏振轴方向具有夹角。上述光罩能通过控制带有区域偏振膜的光罩的紫外光强度，从而实现透射率可调。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种光罩、其制作方法及基板图案的制作方法。

背景技术

在半导体制作工艺中，通过掩模板对涂覆有光刻胶的目标基材进行光刻形成一种光刻图案并对该光刻图案进行刻蚀以将掩模板上的图案转移到目标基材上是非常重要的一个环节。光刻过程是通过曝光机和具有狭缝状透光区域的掩模板对涂覆有光刻胶的目标基材进行掩模曝光的过程。最终将掩模板上的狭缝状透光区域形成的图案转移到目标基材上，对目标基材进行刻蚀，得到目标基材上的具有一定宽度的狭缝状图形结构。

此外，掩模板还包括如图1所示的半色调掩膜，该半色调掩膜一般包括阻挡紫外线的阻挡区101、部分地透射紫外线的半透过区，以及透射紫外线的透射区102，其中半色调掩膜的半透过区可以形成有多个半透过部分，如第一半透过区103和第二半透过区104，要形成多个半透过区需要采用多种具有不同透射率的半透过材料。但是，为了实现具有多于三种互不相同的光透射率的多个半透过部分，需要每种都具有不同透射率的种种半透过材料。也就是说，具有三个以上半透过部分的半色调掩膜的常规制造方法的缺点在于半透过材料的数量增加。

发明内容

本发明旨在提供一种光罩，包括：一基材；设置在所述基材上的有机膜层，其中，所述有机膜层在紫外偏振光的照射下，能够定向排列；其中，所述光罩具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域与第二区域的偏振轴方向具有夹角。

本发明一实施例还提供了一种光罩的制作方法，包括如下：提供一基材；在所述基材上形成有机膜层，该光罩具有第一区域和第二区域，其中，所述有机膜层在紫外偏振光的照射下，能够定向排列；提供第一掩模板，所述第一掩模板暴露出所述光罩的第一区域，遮挡所述第二区域，且向所述第一区域照射第一偏振轴方向的偏振紫外光；将光罩进行旋转；提供第二掩模板，所述第二掩模板暴露出所述第二区域，遮挡所述第一区域，向所述第二区域照射第一偏振轴方向的偏振紫外光；其中，所述光罩的第一区域和第二区域的偏振轴方向具有夹角。

本发明实施例还提供了一种基板图案的制作方法，包括如下步骤；提供一基板，所述基板上形成光刻胶，提供一金属栅及上述光罩，其中，所述光罩位于所述基板的上方，所述金属栅位于所述光罩的上方；向所述金属栅远离光罩的一侧照射紫外光，去除光刻胶。

本发明提供了一种通过控制带有区域偏振膜的光罩的紫外光强度，从而实现透射率可调。

附图说明

下面将通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例，使本领域的普通技术人员更清楚本发明的上述及其他特征和优点，附图中：

图1是现有技术中半色调掩膜的结构示意图；

图2a和图2b为本发明一实施例提供的一种光罩的结构示意图；

图3是为本发明另一实施例提供的光罩的结构示意图；

图4、图5a-图5d和图6，为本发明一实施例提供的光罩制作方法结构示意图和流程图；

图7为图4、图5a-图5d和图6制备方法得到的光罩结构示意图；

图8和图10为制作基板图案的方法示意图和流程图；

图9是光线经过光罩的光透过率与光罩及金属栅的关系图。

具体实施方式