[发明专利]彩膜基板、制造方法及液晶面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其包括基体、黑矩阵层、色阻单元层、公共电极层，所述黑矩阵层及色阻单元层形成于所述基体的同一表面上，所述公共电极层覆盖所述色阻单元层，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述基体周缘还设有胶框，所述胶框内嵌设有凸起，所述凸起在色阻单元层形成时由色阻堆积形成，所述凸起背离所述彩膜基板的端面与所述胶框背离所述彩膜基板的一侧平齐。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻单元层包括数个RGB色阻单元。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述凸起由一种颜色色阻形成或者由多种颜色的色阻堆积形成。

4.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述RGB色阻单元包括第一色阻、第二色阻及第三色阻。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻单元层图案化包括三次曝光显影，所述凸起在所述三次曝光显影中的至少一次形成。

6.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括，提供一基体；

在基体上形成黑矩阵；其中，所述基体形成有黑矩阵的表面周缘与设有胶框区域，

在所述基体上涂布RGB色阻层，所述RGB色阻层中的至少一种色阻堆积于所述胶框区域；

对所述RGB色阻层进行图案化形成色阻单元层，同时在所述胶框区域上形成由RGB色阻堆积而成凸起；

在所述基体上图案化形成公共电极层，所述公共电极层覆盖所述色阻单元层；

在所述胶框区域注入塑胶形成胶框，其中，所述凸起嵌设于所述胶框内，且所述凸起背离所述彩膜基板的端面与所述胶框背离所述彩膜基板的一侧平齐。

7.如权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，在所述“对所述RGB色阻层进行图案化形成色阻单元层，同时在所述胶框区域上形成由RGB色阻堆积而成的凸起”的步骤中，包括在所述基体上依次涂布第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层，并分别对应进行曝光显影形成色阻单元层的步骤；以及，在第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层进行曝光显影中至少一次曝光显影形成所述凸起的步骤。

8.如权利要求7所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在第一色阻、第二色阻及第三色阻进行曝光显影中至少一次曝光显影形成所述凸起的步骤中包括，第一色阻曝光显影后形成凸起或者第一色阻层及第二色层阻曝光显影后叠加形成凸起，或者第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层三种色阻曝光显影后叠加形成凸起。

9.如权利要求7所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜基板的制造方法还包括在所述基体上位于色阻单元层上方形成数个支撑物的步骤。

10.一种液晶面板，其包括阵列基板及与阵列基板相对设置的彩膜基板，所述彩膜基板包括基体、黑矩阵层、色阻单元层、公共电极层，所述黑矩阵层及色阻单元层形成于所述基体的同一表面上，所述公共电极层覆盖所述色阻单元层，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述基体周缘还设有胶框，所述胶框内嵌设有凸起，所述凸起为色阻单元层被图案化时形成；所述阵列基板与所述彩膜基板固定并将所述胶框夹持形成以空腔，用于收容液晶，所述凸起从所述彩膜基板延伸至所述阵列基板。