[发明专利]一种制备片状二氧化硅粉末的方法

权利要求书

1.一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

步骤1、以含硅的矿物作为原料，含硅矿物在300~800℃烘干1~6小时，并将含硅矿物破碎成粒径为0.1~2mm的矿粉，在含硅矿粉中加入一定量的添加剂，采用搅拌或球磨的方式混合均匀，得到混合粉末；所述添加剂包括活化剂、分散剂和晶粒形貌控制剂，活化剂的加入量为0.05~0.1wt.%，所述分散剂的加入量为0.5~1wt.%，所述晶粒形貌控制剂的加入量为2.6~6wt.% ；

步骤2、将步骤1得到的混合粉末置于含卤化氢气氛的密闭容器中进行煅烧，混合粉末的体积占密闭容器体积的30~60%，煅烧过程中，生成的卤化硅水解，得到二氧化硅和卤化氢气体；所述煅烧的工艺为，煅烧温度为600~1200℃，气氛压力为0.1~1MPa，煅烧时间为2~6小时；

步骤3、煅烧结束后，将装有二氧化硅和卤化氢气体的密闭反应容器与带有水冷夹套的气固分离器连接进行气固分离，将生成的二氧化硅和气相进行气固分离，得到片状二氧化硅粉末；所述密闭反应容器与带有水冷夹套的气固分离器连接后，打开阀门打开，使密闭反应容器中的高压气体快速膨胀到带有水冷夹套的气固分离器中，高压气体的膨胀，同时水冷夹套将气-固分离器中的气相温度迅速冷却至在150~280℃。

2.如权利要求1所述一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述分散剂为卤化磷，卤化磷为五氯化磷、三氟化磷和三溴化磷中的一种或几种。

3.如权利要求1所述一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述的晶粒形貌控制剂为能升华为气相的氟化物，氟化物为二氟化铝、氟化铁、氟化亚铁、氟化铌中的一种或几种。

4.如权利要求1所述一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述气相中卤化氢的浓度为10~30%、氨气的浓度为10~30%、水蒸汽的浓度为30~50%、余量为空气。

5.如权利要求1所述制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述步骤2中的含卤化氢的气氛或以卤化氨、氟化氢铵、氢氟酸铵、高氯酸铵或碘酸铵的固体粉末为气相源预先添加到步骤1的混合料中，所述固体粉末的加入量为混合粉末的总质量分数的25~50wt.%。

6.如权利要求1所述一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述含硅矿物原料为铝矾土、锆英砂、粉煤灰、铁矿石或其它含硅矿物。

7.如权利要求1所述一种制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：所述的活化剂为铵盐，如硝酸氨、硫酸氨、硫酸氢铵、碳酸铵、碳酸氢铵中的一种或几种。

8.如权利要求1所述制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：片状二氧化硅粉末的厚度小于0.1μm，平均径厚比大于30。

9.如权利要求1所述制备片状二氧化硅粉末的方法，其特征在于：气-固分离器中排除的气体冷却后得到卤化铵，实现卤化物的循环利用。