[发明专利]用于处理流体流的设备和执行流体流的处理的方法有效

专利信息
申请号: 201510085321.0 申请日: 2010-01-27
公开(公告)号: CN104726326B 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 史蒂文·斯基尔 申请(专利权)人: 史蒂文·斯基尔
主分类号: C12M1/24 分类号: C12M1/24;C12M1/02;C12M1/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 胡海滔
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 用于 处理 流体 设备 执行 方法
【权利要求书】:

1.一种用于使流体流与光合微生物接触的设备,所述设备包括:

壳体,所述壳体具有在其中的接触室,所述接触室由所述壳体的壁部限定;

第一输入口,所述第一输入口用于待处理的所述流体流;

第一输出口,所述第一输出口用于移除含光合微生物的液体培养介质流;

第二输出口,所述第二输出口用于除了含光合微生物的液体培养介质之外的流体流;

转子组件,所述转子组件包括在所述接触室内能够运动的细长的叶轮,其中,所述叶轮包括至少一个勺状部或桶状部,以将一定体积的流体流提取到所述液体培养介质流中,从而增进在所述接触室内液体培养介质与正被处理的流体流之间的接触;

其中,所述转子组件被布置成使所述叶轮沿着基本上环形的路径运动;

其中,所述转子组件被布置成当使所述叶轮在所述接触室内运动时向液体培养介质施加低剪切力;

其中,所述叶轮在设置所述叶轮的所述接触室的基本整个长度上延伸;

其中,限定所述接触室的所述壳体的所述壁部的至少一部分透光;

其中,所述壳体被布置为其纵向轴线大致水平;

其中,在使用时,所述接触室具有由来自待加工的流体流的流体占据的第一区域和由含光合微生物的液体培养介质占据的第二区域,所述第一输入口将待加工的流体流引导到所述接触室的所述第一区域内;

所述叶轮运动通过所述接触室的第一区域和第二区域;

流体通过所述第二输出口离开所述第一区域;其中,所述转子组件设有发光设备的阵列;

所述设备还包括:

低密度的或漂浮的材料,所述低密度的或漂浮的材料清洁所述壳体的内表面;和

用于跨过所述转子组件的叶轮施加电势差的系统。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述壳体为大致圆筒形且具有限定大致圆筒形的接触室的壁部。

3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述壳体是具有壁部和盖部的罐或池,所述罐或池的壁部限定所述接触室,所述罐或池的盖部跨过所述罐或池延伸,所述盖部的至少一部分透光。

4.根据权利要求1所述的设备,其中,所述壳体包括多个接触室,所述多个接触室都具有设置在其中且能够在其中运动的叶轮。

5.根据权利要求1所述的设备,其中,所述壳体的内表面的至少一部分是反光的。

6.根据权利要求1所述的设备,还包括用于提供人造光源的装置,其中,所述用于提供人造光源的装置被设置在所述壳体的外部、内部或者延伸到所述壳体内。

7.根据权利要求1所述的设备,还包括用于流体流的第二输入口,以用于将第二流体流引入所述接触室。

8.根据权利要求1所述的设备,其中,所述转子组件包括在所述接触室内纵向延伸的轴,每个叶轮都支承在所述轴上,其中,所述轴是中空的,从而提供用于供应传热流体的通道。

9.根据权利要求1所述的设备,其中,所述壳体包括多个接触室,单个转子组件设置成移动被设置在每个接触室内的一个或更多个所述叶轮。

10.根据权利要求1所述的设备,还包括用于移除在所述壳体的透明部分上的沉积材料的擦拭组件,其中,所述擦拭组件包括能够跨过所述壳体的透明部分的内表面运动的一个或更多个擦拭叶片。

11.根据权利要求10所述的设备,其中,所述擦拭组件能够在所述壳体内纵向运动。

12.根据权利要求10或11所述的设备,其中,所述擦拭组件连接至所述转子组件,所述擦拭组件和所述转子组件能够在所述壳体内一起运动。

13.根据权利要求1所述的设备,还包括用于从所述接触室移除固体材料的装置,其中,所述用于从所述接触室移除固体材料的装置由所述转子组件驱动。

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