[发明专利]合成石英玻璃的热处理方法有效
| 申请号： | 201510085325.9 | 申请日： | 2015-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN104860521B | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 八木寿;竹内正树;原田大实 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C03B32/00 | 分类号： | C03B32/00;C03B25/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 合成 石英玻璃 热处理 方法 | ||
1.用于热处理合成石英玻璃的方法，该合成石英玻璃具有最大值与最小值之间的差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度和在中心部分中400－600ppm的羟基浓度，该方法包括以下步骤：
在1150－1060℃的温度下保持一定时间的第一热处理，
以一定速率冷却至第二热处理温度，
在1030－950℃的温度下保持一定时间的第二热处理，第二热处理的时间为至少5小时，和
以－25℃/小时至－85℃/小时的速率退火。
2.权利要求1的方法，其中第二热处理的时间为5－20小时。
3.用于热处理合成石英玻璃的方法，该合成石英玻璃具有最大值与最小值之间的差异(△OH)为至少350ppm的羟基浓度，该方法包括以下步骤：
在1150－1060℃的温度下保持一定时间的第一热处理，
以一定速率冷却至第二热处理温度，
在1030－950℃的温度下保持一定时间的第二热处理，第二热处理的时间为10－15小时，和
以－25℃/小时至－85℃/小时的速率退火。
4.权利要求1或3的方法，其中第一热处理的时间为0.5－10小时。
5.权利要求1或3的方法，其中退火步骤包括以－25℃/小时至－45℃/小时的速率从第二热处理温度到850℃的第一退火步骤，和以－25℃/小时至－85℃/小时的速率从850℃到500℃的第二退火步骤。
6.权利要求1或3的方法，其中冷却至第二热处理温度的步骤以－7.5℃/小时至－30℃/小时的速率进行。
7.权利要求3的方法，其中待处理的合成石英玻璃在中心部分中具有400－600ppm的羟基浓度。
8.权利要求1或3的方法，其中在热处理结束时的合成石英玻璃在经受ArF准分子激光辐照的有效范围内具有最高至2nm/cm的双折射。
9.权利要求1或3的方法，其中向块形式的合成石英玻璃施加热处理，随后将该块形式的合成石英玻璃切片并抛光以形成基材。
10.制备合成石英玻璃光学元件基材的方法，包括：
通过直接法或间接法形成合成石英玻璃锭；
热加工该锭以制备合成石英玻璃块；
根据权利要求1或3热处理该合成石英玻璃块；
将该合成石英玻璃块切片、研磨并抛光以形成基材。
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