[发明专利]用于移除黑水的系统和方法

权利要求书

1.一种系统，包括：

配置成移除黑水的气化器，其中所述气化器包括反应器和设置在所述反应器下游的骤冷室，并且所述骤冷室配置成冷却在所述反应器中所产生的合成气；

合成气处理系统，其配置成将骤冷液体的第一部分通过在所述合成气处理系统和所述气化器的第一入口之间延伸的第一流动路径供应至所述气化器并将所述骤冷液体的第二部分通过在所述合成气处理系统和所述气化器的第二入口之间延伸的第二流动路径供应至所述气化器；

闭锁式料斗，其配置成接收在所述反应器中所产生的气化副产物，并将所述骤冷液体的第三部分通过在所述闭锁料斗的出口和所述气化器的第三入口之间延伸的第三流动路径供应至所述气化器；以及

联接在所述合成气处理系统和所述闭锁式料斗上的除气器，其中所述除气器配置成使所述闭锁式料斗减压。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，包括联接在所述闭锁式料斗上的新鲜补给水源，其中所述新鲜补给水源配置成将新鲜补给水供应至所述闭锁式料斗，并且所述新鲜补给水包括所述骤冷液体的第三部分。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述闭锁式料斗配置成当从所述气化器接收气化副产物时置换所述新鲜补给水，从而将所述骤冷液体的第三部分供应至所述气化器。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，包括骤冷环，其配置成接收所述骤冷液体的第一部分，其中所述骤冷液体的第一部分沿着设置在所述反应器下游的汲取管的内表面而流动，并流入到所述骤冷室中。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述汲取管包括沿着所述内表面的保护屏障，所述保护屏障配置成接触所述合成气流。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述骤冷液体的第一部分和所述骤冷液体的第二部分包括黑水，并且所述合成气处理系统配置为将所述合成气处理生成所述黑水。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述骤冷室联接在所述第二入口和所述第三入口上，并配置成接收所述骤冷液体的第二部分和所述骤冷液体的第三部分。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，包括一个或多个泵，其联接在所述骤冷室上，并配置成使所述骤冷液体的第二部分或所述骤冷液体的第三部分流向所述骤冷室。

9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，进一步包括控制器，所述控制器配置为控制所述骤冷液体的所述第一部分和所述第二部分的流动以使得所述骤冷室将骤冷蒸发水平保持在90％至100％之间。

10.一种方法，包括：

对气化器提供燃料，其中所述气化器包括反应器和骤冷室；

使所述燃料在所述反应器中气化，以产生合成气；

将骤冷液体供应至所述气化器，其中骤冷环配置成从合成气处理系统中通过在合成气处理系统和所述气化器之间延伸的第一流动路径接收所述骤冷液体的第一部分，以便冷却所述气化器的汲取管中的所述合成气的至少一部分，其中所述合成气处理系统与所述所述气化器流体连通并配置成接收所述气化器生成的所述合成气；以及

对所述气化器添加所述骤冷液体的第二部分、第三部分或其组合，其中所述骤冷液体的第二部分和所述骤冷液体的第三部分添加至所述骤冷室，并且所述骤冷液体的第二部分和所述骤冷液体的第三部分在成分上是不同的；

其中，所述合成气处理系统将所述骤冷液体的第二部分通过在所述合成气处理系统和所述气化器之间延伸的第二流动路径供应至所述骤冷室；并且其中，闭锁式料斗设置于所述气化器下游，并将所述骤冷液体的第三部分通过在所述闭锁料斗和所述气化器之间延伸的第三流动路径供应至所述骤冷室。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述骤冷液体的第三部分包括来自闭锁式料斗的新鲜补给水，所述闭锁式料斗设置在所述气化器的下游，并配置成接收在所述反应器中产生的气化副产物。