[发明专利]一种用于微纳器件制作的样品处理装置及处理工艺

说明书

本发明提供一种用于微纳器件制作的样品处理装置，包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置，所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆，所述底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔，所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部；所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘；还提供了一种用于微纳器件制作的样品清洗、显影、润洗的处理工艺。本发明的样品处理装置，用于样品清洗、显影、润洗与甩干过程盛放微纳器件，使样品能得到稳定可靠的清洗与甩干；本发明的样品处理工艺，可显著提高样品清洗、显影、润洗的效率，缩短微纳器件制作周期。

技术领域

本发明涉及微加工制作技术领域，具体涉及一种用于微纳器件制作的样品处理装置及处理工艺。

背景技术

当前，单晶硅、碳化硅、含氧化层基板、玻璃基板及陶瓷基板的微加工制作工艺中，所有与基板接触的外部媒介都是基板上玷污杂质的可能来源。这主要包括以下几个方面：基板在加工成型过程中的污染、环境污染、水造成的污染、试剂带来的污染、工业气体造成的污染、工艺本身造成的污染、人体造成的污染等。半导体器件生产中，基板必须经严格清洗，否则其粘有的微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除基板表面的污染杂质，包括金属、有机物和无机物等。这些杂质有的以原子状态或离子状态存在，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于基板表面。微纳器件的制作是以清洗并得到干净的基板为起点的，基板清洗是半导体器件制造中最重要最频繁的步骤，而且其效率将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性，这就对清洗工艺的高效性和可靠性提出了很高的要求。因此，开发出一种在微纳器件制作过程中，用于微纳器件清洗、显影、润洗等程序的样品处理装置及处理工艺也就成为现实之需。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于微纳器件制作的样品处理装置，用于样品清洗、显影、润洗与甩干过程盛放微纳器件，使样品能得到稳定可靠的清洗与甩干。

此外，本发明另一目的是提供一种用于微纳器件制作的样品处理工艺，采用上述样品处理装置，可显著提高样品清洗、显影、润洗的效率，缩短微纳器件制作周期。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种用于微纳器件制作的样品处理装置，包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置，所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆，所述 底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔，所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部；所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘。

根据以上方案，所述矩形凹槽的宽小于所述圆形通孔的直径。

根据以上方案，所述提杆为可拆卸式提杆，下部设有螺纹，以便于安装于所述底盘上。

一种微纳器件制作的样品清洗工艺，包括如下步骤：

1)将基板(硅片)切成小块；

2)将清洗基板的玻璃烧杯及其他装置用去离子水在超声装置中清洗4遍，再将已切好的基板装载于所述洗显装置中，然后置于已清洗的玻璃烧杯中；

3)向玻璃烧杯中注入适量乙醇(以没过基板为宜)，置于超声装置中清洗1分钟，之后将乙醇倒入回收瓶，如此重复用乙醇清洗4遍；

4)向玻璃烧杯中注入适量水，置于超声装置中清洗1分钟，然后将水倒掉，如此重复4遍；

5)向玻璃烧杯中先注入适量双氧水，再注入适量浓硫酸，确保双氧水与浓硫酸之比为1:2(二者之和没过基板少许)，持续浸泡30分钟，然后将液体倒入回收瓶；

6)向玻璃烧杯中注入适量去离子水，再将其倒入硫酸的废液回收瓶中，然后再用去离子水清洗4遍；

7)向玻璃烧杯中先注入适量水，再先后注入适量双氧水与氨水，确保水、双氧水、氨水之比为6:1:1(三者之和没过基板少许)，然后置于260摄氏度热台上加热，待有气泡产生时开始计时，15分钟后取下烧杯，将废液回收；