[发明专利]一种无土栽培基质在审
申请号: | 201510090408.7 | 申请日: | 2015-02-28 |
公开(公告)号: | CN104663401A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 潘明奎;唐馨 | 申请(专利权)人: | 潘明奎 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 102218 北京市昌*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无土栽培 基质 | ||
技术领域
本发明涉及一种无土栽培基质,属于无土栽培技术领域。
背景技术
无土栽培作为新型农业的一个重要代表,帮助人类成功的克服了土壤沙漠化、盐碱化、板结等作物连作障碍,同时还具有作物高产、优质、可控以及无污染等诸多优点。基质是无土栽培系统中的重要组成部分,对基质的研究在一定程度上反应了无土栽培技术的发展水平,基质的作用有四个方面:固定作物根系,供水、供肥以及气体交换。基质栽培是用固体基质(介质)固定植物根系,并通过基质吸收营养液和氧的一种无土栽培方式。基质种类很多,常用的无机基质有蛭石、珍珠岩、岩棉、沙、聚氨酯等;有机基质有泥炭、稻壳炭、树皮等。因此基质栽培又分为岩棉栽培、沙培等。采用滴灌法供给营养液。其优点是设备较简单、生产成本较低等。但需基质多,连作的陈基质易带病菌,传病。
传统的无土栽培的基质是对各种有机物的调配,使其相当于改良后的土壤,此基质调配好在种植几茬作物后,基质中的有机物成分和微生物就会发生改变,有机成分无法补充,亦无法有针对性地去除微生物,一般这种基质只能用3年,之后便不能发挥其优势。
发明内容
本发明的目的在于提供一种无土栽培基质,以便更好实现无土栽培,改善栽培效果,提高无土栽培的效率。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下。
一种无土栽培基质,该基质为加工成块的椰糠,利用椰子外壳加工而成,其pH值:5.5~6.5,具体包括以下几种:
(1)650克椰砖:为水洗脱盐椰砖,粒径为6毫米,尺寸20×10×6cm,重量为640~660克,充分泡发6至7升予以使用;
(2)5公斤椰糠:为水洗脱盐椰糠,粒径为6毫米,尺寸30×30×13cm,重量为4950~5050克,充分泡发60至70升予以使用;
(3)5公斤椰块:脱盐中粗颗粒,粒径1~1.5厘米,尺寸30×30×15cm。
进一步地,该基质使用方法包括:
(1)针对育苗、幼苗、扦插、无土栽培基质:能直接使用,或者与草炭土混合成种植介质,其中,育苗时不使用肥料,避免烧苗。
(2)瓜果蔬菜:对水分需求大,椰糠保水透气,适合用作栽培介质,能直接使用,或者与基质混合使用。
(3)多肉植物:与其他透气性好、排水性强的基质混合使用。
(4)爬虫类宠物:作为这些宠物的垫材。
(5)植物造景:植物景观种植介质。
该发明的有益效果在于:采用椰糠基质无土栽培法,能利用碎椰壳为基质,相比珍珠岩、蛭石来说,碎椰壳通透性和惰性都比较好,椰糠可以自然降解,不污染环境。其优点在于,此基质可以循环使用,当基质微生物环境不适合作物生长时可随意清洗,之后再重新配比营养液,基质能做到重复利用。该基质生产过程天然环保,无任何有害物质,也不需要挖掘矿物戒者焚烧物质。干净卫生,节水节肥,提高作物的质量和产量,且物美价廉。椰壳粉是一种无公害、绿色环保、天然优良的植物培养基质材料,适用于花卉蔬菜育苗栽培、扦插苗繁殖、组培苗栽培及土壤改良,具有良好的保水性、保湿性、透气性及稳定的酸碱度(PH值5.5~6.5),适合大多数植物生长的需求。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述,以便更好的理解本发明。
实施例
本实施例中的无土栽培基质,该基质为加工成块的椰糠,利用椰子外壳加工而成,其pH值:5.5~6.5,具体包括以下几种:
(1)650克椰砖:为水洗脱盐椰砖,粒径为6毫米,尺寸20×10×6cm,重量为640~660克,充分泡发6至7升予以使用;
(2)5公斤椰糠:为水洗脱盐椰糠,粒径为6毫米,尺寸30×30×13cm,重量为4950~5050克,充分泡发60至70升予以使用;
(3)5公斤椰块:脱盐中粗颗粒,粒径1~1.5厘米,尺寸30×30×15cm。
进一步地,椰糠的使用方法如下:
(1)针对育苗、幼苗、扦插、无土栽培基质:能直接使用,或者与草炭土混合成种植介质,其中,育苗时不使用肥料,避免烧苗。
(2)瓜果蔬菜:对水分需求大,椰糠保水透气,适合用作栽培介质,能直接使用,或者与基质混合使用。
(3)多肉植物:与其他透气性好、排水性强的基质混合使用。
(4)爬虫类宠物:作为这些宠物的垫材。
(5)植物造景:植物景观种植介质。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
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