[发明专利]平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜

权利要求书

1.一种平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述光学膜包括基材层、位于基材层上方的若干菲涅尔透镜阵列层、以及位于基材层下方的若干微图形层，其中所述菲涅尔透镜阵列层由若干阵列设置的菲涅尔透镜组成，所述菲涅尔透镜阵列层与微图形层的距离为菲涅尔透镜的焦距。

2.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述菲涅尔透镜包括沿光轴依次设置的第一傅立叶变换透镜、菲涅尔位相元件、第二傅立叶变换透镜、输出面、以及缩微光学系统，通过第一傅立叶变换透镜、菲涅尔位相元件和第二傅立叶变换透镜，在输出面上形成不同焦距的菲涅尔透镜的光场分布，经过后继缩微光学系统，获得菲涅尔透镜阵列。

3.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜的厚度大于或等于20μm，菲涅耳透镜阵列层的厚度为200nm-1μm。

4.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述基材层的厚度为10μm-500μm。

5.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述微图形层中微图形的特征尺寸大于或等于1μm，微图形的沟槽深度为1μm-5μm。

6.根据权利要求5所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述微图形层中微图形的特征尺寸为2μm-5μm。

7.根据权利要求2所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述菲涅尔透镜阵列层中，菲涅尔位相元件的边缘处的空频范围为50线对/mm-10线对/mm，缩微光学系统的物镜数值孔径NA>0.45，缩微倍数>20倍，视场为2mm。

8.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述菲涅尔透镜阵列层的外侧蒸镀有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率大于或等于2.0。

9.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述菲涅尔透镜阵列层的不同区域涂覆不同颜色的油墨，菲涅尔透镜阵列层的不同区域中菲涅尔透镜的焦距不同。

10.根据权利要求1所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述基材层包括从上向下依次设置的第一基材层和第二基材层，所述菲涅尔透镜阵列层包括位于第一基材层上的第一菲涅尔透镜阵列层和第二菲涅尔透镜阵列层，所述微图形层包括位于第一基材层下方的第一微图形层和位于第二基材层下方的第二微图形层。

11.根据权利要求10所述的平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，其特征在于，所述第一菲涅尔透镜阵列层中菲涅尔透镜的焦距为第一菲涅尔透镜阵列层与第一微图形层的距离，第二菲涅尔透镜阵列层中菲涅尔透镜的焦距为第二菲涅尔透镜阵列层与第二微图形层的距离。