[发明专利]制造装置管理系统以及制造装置管理方法有效
申请号: | 201510094685.5 | 申请日: | 2015-03-03 |
公开(公告)号: | CN104934349B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 麻柄隆 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G06Q10/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 徐冰冰,刘杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 装置 管理 系统 以及 方法 | ||
1.一种制造装置管理系统,具备:
不合格率检测部,提取在一个工序中具有第1不合格率的第1装置通过履历,并检测在所述第1装置通过履历中除去了第2装置通过履历后的履历的不合格率即第3不合格率,所述第2装置通过履历是在所述一个工序以外的其他工序中具有第2不合格率的装置通过履历;
明显误差检验部,基于有无不合格图案来算出明显误差检验值;以及
不合格判定部,基于所述第3不合格率和所述明显误差检验值,从所述第1装置通过履历的除去了所述第2装置通过履历后的履历中提取第3装置通过履历。
2.根据权利要求1所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格率检测部基于第1阈值检测所述第3不合格率。
3.根据权利要求2所述的制造装置管理系统,其中,
所述明显误差检验部基于第2阈值算出所述明显误差检验值。
4.根据权利要求3所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格判定部基于所述第1阈值和所述第2阈值提取所述第3装置通过履历。
5.根据权利要求4所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格判定部在所述第3不合格率为所述第1阈值以上、且所述明显误差检验值为所述第2阈值以下的情况下,将所述第3装置通过履历作为不合格因素提取。
6.根据权利要求1所述的制造装置管理系统,其中,
还具备数据表制作部,该数据表制作部制作与不合格率以及装置通过履历相关的数据表。
7.根据权利要求6所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格率检测部从所述数据表提取所述第1装置通过履历以及所述第2装置通过履历。
8.根据权利要求1所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格率检测部将在所述一个工序中不合格率最高的装置通过履历作为所述第1装置通过履历提取。
9.根据权利要求8所述的制造装置管理系统,其中,
所述不合格率检测部将在所述一个工序以外的工序中不合格率最高的装置通过履历作为所述第2装置通过履历提取。
10.一种制造装置管理方法,具备:
提取在一个工序中具有第1不合格率的第1装置通过履历的工序;
检测在所述第1装置通过履历内除去了第2装置通过履历后的履历的不合格率即第3不合格率的工序,所述第2装置通过履历是在所述一个工序以外的其他工序中具有第2不合格率的装置通过履历;
基于有无不合格图案来算出明显误差检验值的工序;以及
基于所述第3不合格率和所述明显误差检验值、从所述第1装置通过履历的除去了所述第2装置通过履历后的履历中提取第3装置通过履历的工序。
11.根据权利要求10所述的制造装置管理方法,其中,
所述第3不合格率基于第1阈值检测。
12.根据权利要求11所述的制造装置管理方法,其中,
所述明显误差检验值基于第2阈值算出。
13.根据权利要求12所述的制造装置管理方法,其中,
所述第3装置通过履历基于所述第1阈值和所述第2阈值提取。
14.根据权利要求13所述的制造装置管理方法,其中,
在所述第3不合格率为所述第1阈值以上、且所述明显误差检验值为所述第2阈值以下的情况下,所述第3装置通过履历被作为不合格因素提取。
15.根据权利要求10所述的制造装置管理方法,其中,
所述第1装置通过履历从与不合格率以及装置通过履历相关的数据表提取。
16.根据权利要求15所述的制造装置管理方法,其中,
还具备从所述数据表提取所述第2装置通过履历的工序。
17.根据权利要求10所述的制造装置管理方法,其中,
所述第1装置通过履历是在所述一个工序中不合格率最高的装置通过履历。
18.根据权利要求17所述的制造装置管理方法,其中,
所述第2装置通过履历是在所述一个工序以外的工序中不合格率最高的装置通过履历。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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