[发明专利]金属配合物及其制备方法和用途、显示器件

权利要求书

1.一种金属配合物，其特征在于，所述金属配合物的结构式如下：

其中，金属原子M为铱Ir；

所述R₁、R₂、R₃或R₄各自独立的为取代的苯基；

结构式(I)中，在位于金属原子M左侧的C＾N子结构中，C位于第一芳环或芳杂环中，N位于第二芳杂环中，并且C、N、M又构成五元或六元的第三芳杂环。

2.根据权利要求1所述的金属配合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃或R₄为

3.根据权利要求1或2所述的金属配合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃或R₄在各自的苯环上为对位取代。

4.根据权利要求1所述的金属配合物，其特征在于，所述R₁与R₃相同，并且在各自的苯环上的取代位置相同；所述R₂与R₄相同，并且在各自的苯环上的取代位置相同。

5.根据权利要求1所述的金属配合物，其特征在于，所述C＾N子结构为：

6.一种金属配合物的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

(1)将结构式为(II)(III)的氯化二取代基苯基磷溶解于无水甲苯中，加热至回流，其中，所述R₁、R₂、R₃或R₄各自独立的为取代的苯基；滴加六甲基二硅胺烷HMDS，滴毕继续在回流状态下反应；得到结构式为(IV)的中间产物；

(2)将结构式为(IV)的中间产物溶于四氢呋喃THF中，将双氧水与THF的混合溶液滴加至反应溶液中，滴毕继续反应；得到结构式为(V)的辅助配体；

(3)利用MCl₃使结构式为(VII)的主配体形成结构式为(VIII)的氯桥化合物；其中金属原子M为铱Ir；在结构式(VII)中，C位于第一芳环或芳杂环中，N位于第二芳杂环中，并且C、N、M又构成五元或六元的第三芳杂环；

(4)在无水无氧条件下，结构式为(VIII)的氯桥化合物与结构式为(VI)的成盐辅助配体溶解在乙二醇单乙醚中，反应得到结构式为(I)的金属配合物；其中，成盐辅助配体(VI)由辅助配体(V)得到

7.根据权利要求6所述的金属配合物的制备方法，其特征在于，

在所述步骤(1)中，结构式为(II)(III)的氯化二取代基苯基磷与六甲基二硅胺烷HMDS的摩尔比为1:1:(0.8～1.2)；和/或

在所述步骤(3)中，MCl₃与结构式为(VII)的主配体的摩尔配比为1:(2～3)；和/或

在所述步骤(4)中，结构式为(VIII)的氯桥化合物与结构式为(VI)的成盐辅助配体的摩尔配比为1：(2～3)。

8.根据权利要求6或7所述的金属配合物的制备方法，其特征在于，

在所述步骤(1)中，结构式为(II)(III)的氯化二取代基苯基磷相同，则所述将结构式为(II)(III)的氯化二取代基苯基磷溶解于无水甲苯中具体为

将结构式为(II)的氯化二取代基苯基磷溶解于无水甲苯中。

9.权利要求1所述的金属配合物在显示器件中作为发光材料的用途。

10.一种显示器件，其特征在于，所述显示器件中的发光材料为权利要求1所述的金属配合物。

11.根据权利要求10所述的显示器件，其特征在于，所述显示器件为OLED。