[发明专利]光谱数据干扰抑制方法、建模方法、预测方法和处理装置

权利要求书

1.一种光谱数据干扰抑制方法，包括：

在多个第一测量状态下，确定至少一种干扰因素各自对光谱测量的相应多个干扰模式，并建立所述至少一个干扰因素的干扰模式与测量状态之间的关系，所述干扰模式限定距离光源的多个径向位置处的干扰；

在第二测量状态下，获得包含特定成分的被测介质的漫射光谱数据；以及

基于干扰模式，从漫射光谱数据中提取与特定成分相关的信息，其中，提取信息包括：

基于所建立的所述至少一个干扰因素的干扰模式与测量状态之间的关系，确定在第二测量状态下所述至少一种干扰因素各自对漫射光谱数据的干扰；以及

从漫射光谱数据中分别直接减去所述至少一种干扰因素各自对所述漫射光谱数据的干扰，

其中，在所提取的信息中，抑制了与所述至少一种干扰因素对漫射光谱数据的干扰。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

针对每一干扰因素，其干扰以该干扰因素单独变化而导致的光强相对变化量来度量。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述干扰模式包括随径向位置的实质上线性变化。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，针对单个干扰因素，确定该干扰因素的干扰模式包括：

确定特定成分的基准点位置以及该干扰因素的基准点位置，其中所述特定成分的基准点位置指示光谱数据中的光强信息对被测介质中特定成分的浓度改变实质上不敏感的径向位置，所述干扰因素的基准点位置指示光谱数据中的光强信息对干扰因素的变化实质上不敏感的径向位置；

根据所述特定成分的基准点位置处的漫射光谱数据值以及所述干扰因素的基准点位置，确定该干扰因素的干扰模式。

5.根据权利要求2所述的方法，其中，确定干扰模式包括：

测量由该干扰因素导致的在至少两个径向位置处的干扰；以及

利用线性或非线性拟合，获得由该干扰因素导致的在所述多个径向位置处的干扰。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，

在线性拟合的情况下，利用斜率和截距来表示所述干扰模式；或者

所述非线性拟合包括二阶多项式拟合，且利用二价多项式拟合的系数来表示所述干扰模式。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述漫射光谱数据包括特定成分的浓度为第一浓度时的光强与特定成分的浓度为第二浓度时的光强之间的光强绝对变化量或相对变化量。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，建立所述至少一个干扰因素的干扰模式与测量状态之间的关系包括：

获得该干扰因素在单位变化下的干扰模式。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，干扰因素包括影响被测介质的吸收系数和/或散射系数的因素。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，干扰因素包括温度和/或系统漂移。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，针对多个波长，分别进行所述确定干扰模式、获得光谱数据和提取相关信息的操作。

12.一种光谱数据干扰抑制方法，包括：

确定至少一种干扰因素各自对光谱测量的干扰模式，所述干扰模式限定距离光源的多个径向位置处的干扰；

获得包含特定成分的被测介质的漫射光谱数据；以及

基于干扰模式，从漫射光谱数据中提取与特定成分相关的信息，其中，提取信息包括：

通过多变量回归，获得漫射光谱数据中与特定成分相关的信息，

其中，在所提取的信息中，抑制了与所述至少一种干扰因素对漫射光谱数据的干扰。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，多变量回归包括：针对多种单一因素单独作用时的干扰模式或者所述多种因素共同作用时的干扰模式，建立与所述特定成分相关联的回归模型。