[发明专利]含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体及合成方法有效

专利信息
申请号: 201510098886.2 申请日: 2015-03-05
公开(公告)号: CN104672175B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 徐卫兵;陈凯;毛亚俊;周正发 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C07D285/125 分类号: C07D285/125;C07D417/14
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 代理人: 孙永刚,奚华保
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 含二苯砜噻二唑硫醚 巯基 折射率 单体 合成 方法
【权利要求书】:

1.一种含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体,其分子结构如式(I)所示:

2.一种如权利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法,包括Williamson合成法,其特征在于:在保护气氛条件下,将2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、碱以及4,4’-二氯二苯砜于反应容器中反应过夜,反应温度为150~240℃,反应结束后冷却,加入萃取剂,收集有机相,用水洗去无机物,再用醇洗去未反应掉的反应物,干燥产物,得到式(Ⅰ)所示树脂单体。

3.根据权利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法,其特征在于:2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑与碱的摩尔比为1:0.5~1.1,2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑与4,4’-二氯二苯砜的摩尔比为2~2.6:1。

4.根据权利要求2或3所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法,其特征在于:所述碱是NaOH、KOH、Na2CO3、K2CO3、NaHCO3、KHCO3、三乙胺和对二甲胺基吡啶中的一种或几种的混合物。

5.根据权利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法,其特征在于:洗去未反应掉的反应物所用的醇为无水乙醇或无水甲醇。

6.一种如权利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的应用,其特征在于:式(I)所示单体与环氧氯丙烷反应制备如式(II)所示的环氧单体,

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