[发明专利]一种读头传感器在审

专利信息
申请号: 201510100220.6 申请日: 2015-01-28
公开(公告)号: CN104810026A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 淡河纪宏;驹垣幸次郎 申请(专利权)人: HGST荷兰有限公司
主分类号: G11B5/115 分类号: G11B5/115;G11B5/127
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 关兆辉;谢丽娜
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 传感器
【权利要求书】:

1.一种读头传感器,包括:

下屏蔽;

上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方;以及

传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间,其中所述传感器叠层包括:

钉扎磁层;

间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;

自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及

双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在非磁层上的磁层;以及

侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近。

2.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述双包覆层中的磁层包括NiFe、CoFe或NiCoFe。

3.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述非磁层是Ta。

4.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述非磁层的厚度小于1纳米。

5.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述上屏蔽进一步包括:

底部磁层,所述底部磁层包括第一磁层和设置在所述第一磁层上的第二磁层;

第一非磁层,设置在所述底部磁层上;

顶部磁层,设置在所述第一非磁层上,所述顶部磁层包括三层磁性膜叠层;以及

反铁磁层,设置在所述顶部磁层上。

6.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述底部磁层中的第一和第二磁层选自NiFe、CoFe或NiCoFe中的至少一种。

7.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述第一磁层是CoFe并且所述第二磁层是NiFe。

8.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述顶部磁层中的三层磁性膜叠层包括被夹在CoFe层之间的NiFe层。

9.如权利要求8所述的读头传感器,进一步包括与所述侧屏蔽耦合的线圈结构。

10.如权利要求1所述的读头传感器,进一步包括与所述侧屏蔽耦合的线圈结构。

11.一种读头传感器,包括:

下屏蔽;

上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方,其中所述上屏蔽包括:

底部磁层,所述底部磁层包括第一磁层和设置在所述第一磁层上的第二磁层;

第一非磁层,设置在所述底部磁层上;

顶部磁层,设置在所述第一非磁层上,所述顶部磁层包括三层磁性膜叠层;以及

反铁磁层,设置在所述顶部磁层上;

传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间;以及

侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近。

12.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述底部磁层中的第一和第二磁层选自NiFe、CoFe或NiCoFe中的至少一种。

13.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述第一磁层是CoFe、而所述第二磁层是NiFe。

14.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述顶部磁层中的三层磁性膜叠层包括被夹在CoFe层之间的NiFe层。

15.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述传感器叠层进一步包括:

钉扎磁层;

间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;

自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及

双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在非磁层上的磁层。

16.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述双包覆层中的磁层包括NiFe、CoFe或NiCoFe。

17.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述非磁层是Ta。

18.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述非磁层厚度小于1纳米。

19.一种读头传感器,包括:

下屏蔽;

上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方;

传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间;以及

侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近;以及

线圈结构,被设置为与所述侧屏蔽耦合。

20.如权利要求19所述的读头传感器,其中,所述传感器叠层进一步包括:

钉扎磁层;

间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;

自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及

双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在Ta层上的NiFe层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HGST荷兰有限公司,未经HGST荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510100220.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top