[发明专利]一种读头传感器在审
申请号: | 201510100220.6 | 申请日: | 2015-01-28 |
公开(公告)号: | CN104810026A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 淡河纪宏;驹垣幸次郎 | 申请(专利权)人: | HGST荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/115 | 分类号: | G11B5/115;G11B5/127 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 关兆辉;谢丽娜 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 传感器 | ||
1.一种读头传感器,包括:
下屏蔽;
上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方;以及
传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间,其中所述传感器叠层包括:
钉扎磁层;
间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;
自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及
双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在非磁层上的磁层;以及
侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近。
2.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述双包覆层中的磁层包括NiFe、CoFe或NiCoFe。
3.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述非磁层是Ta。
4.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述非磁层的厚度小于1纳米。
5.如权利要求1所述的读头传感器,其中,所述上屏蔽进一步包括:
底部磁层,所述底部磁层包括第一磁层和设置在所述第一磁层上的第二磁层;
第一非磁层,设置在所述底部磁层上;
顶部磁层,设置在所述第一非磁层上,所述顶部磁层包括三层磁性膜叠层;以及
反铁磁层,设置在所述顶部磁层上。
6.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述底部磁层中的第一和第二磁层选自NiFe、CoFe或NiCoFe中的至少一种。
7.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述第一磁层是CoFe并且所述第二磁层是NiFe。
8.如权利要求5所述的读头传感器,其中,所述顶部磁层中的三层磁性膜叠层包括被夹在CoFe层之间的NiFe层。
9.如权利要求8所述的读头传感器,进一步包括与所述侧屏蔽耦合的线圈结构。
10.如权利要求1所述的读头传感器,进一步包括与所述侧屏蔽耦合的线圈结构。
11.一种读头传感器,包括:
下屏蔽;
上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方,其中所述上屏蔽包括:
底部磁层,所述底部磁层包括第一磁层和设置在所述第一磁层上的第二磁层;
第一非磁层,设置在所述底部磁层上;
顶部磁层,设置在所述第一非磁层上,所述顶部磁层包括三层磁性膜叠层;以及
反铁磁层,设置在所述顶部磁层上;
传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间;以及
侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近。
12.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述底部磁层中的第一和第二磁层选自NiFe、CoFe或NiCoFe中的至少一种。
13.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述第一磁层是CoFe、而所述第二磁层是NiFe。
14.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述顶部磁层中的三层磁性膜叠层包括被夹在CoFe层之间的NiFe层。
15.如权利要求11所述的读头传感器,其中,所述传感器叠层进一步包括:
钉扎磁层;
间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;
自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及
双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在非磁层上的磁层。
16.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述双包覆层中的磁层包括NiFe、CoFe或NiCoFe。
17.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述非磁层是Ta。
18.如权利要求15所述的读头传感器,其中,所述非磁层厚度小于1纳米。
19.一种读头传感器,包括:
下屏蔽;
上屏蔽,设置在所述下屏蔽上方;
传感器叠层,设置在所述下屏蔽和所述上屏蔽之间;以及
侧屏蔽,设置在所述下屏蔽之上和所述上屏蔽下方的传感器叠层附近;以及
线圈结构,被设置为与所述侧屏蔽耦合。
20.如权利要求19所述的读头传感器,其中,所述传感器叠层进一步包括:
钉扎磁层;
间隔层,设置在所述钉扎磁层之上;
自由磁层,设置在所述间隔层之上;以及
双包覆层,设置在所述自由磁层上,所述双包覆层包括设置在Ta层上的NiFe层。
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