[发明专利]气压式温度传感器及其制作方法有效
申请号: | 201510100498.3 | 申请日: | 2015-03-06 |
公开(公告)号: | CN104614086B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 费跃;王旭洪;张颖 | 申请(专利权)人: | 上海新微技术研发中心有限公司 |
主分类号: | G01K5/46 | 分类号: | G01K5/46;G01K5/28 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)11535 | 代理人: | 刘元霞 |
地址: | 201800 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气压 温度传感器 及其 制作方法 | ||
1.一种气压式温度传感器的制作方法,该方法包括:
在工作气体(4)的气氛中,将红外吸收热敏层(3)通过键合封环(2)键合于压力传感器(1)的表面,以形成由所述红外吸收热敏层(3)、所述压力传感器(1)、以及所述键合封环(2)围合而成的第一空腔(4a),并且该第一空腔中密封有所述工作气体(4);
形成至少位于所述红外吸收热敏层(3)上方的密封的第二空腔(10),所述第二空腔(10)的底部至少包括所述红外吸收热敏层(3),所述第二空腔(10)的侧壁包括介质层图形结构的一部分,所述第二空腔(10)的顶部包括介质层图形结构的另一部分、以及红外滤光片(9),所述红外滤光片(9)与所述第一空腔(4a)的位置对应。
2.如权利要求1所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,所述介质层图形结构包括第一层介质层图形结构(6)和第二层介质层图形结构(11),形成所述第二空腔(10)的方法包括:
形成覆盖所述红外吸收热敏层(3)的牺牲层图形(5);
形成覆盖所述牺牲层图形(5)的第一层介质层图形结构(6),所述第一层介质层图形结构(6)具有第一凹槽(7)以及第二凹槽(8),其中,所述第一凹槽(7)使所述牺牲层图形(5)的边缘露出,所述第二凹槽(8)与所述第一空腔(4a)的位置对应;
形成覆盖所述第二凹槽(8)且露出所述第一凹槽(7)的红外滤光片(9);
经由所述第一凹槽(7)释放所述牺牲层图形(5),形成空腔(10a);
形成填充所述第一凹槽(7)且露出所述红外滤光片(9)的第二层介质层图形结构(11),以使所述空腔(10a)密封,形成密封的第二空腔(10)。
3.如权利要求2所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,
所述第二凹槽(8)的尺寸不小于所述第一空腔(4a)的尺寸。
4.如权利要求1所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,
所述第二空腔(10)内为真空。
5.如权利要求1所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,
所述压力传感器(1)是差压式压力传感器或绝压式压力传感器。
6.如权利要求1所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,
所述工作气体(4)是氢气、氮气、和/或稀有气体。
7.如权利要求2所述的气压式温度传感器的制作方法,其中,
所述第一凹槽(7)的数量为至少一个。
8.一种气压式温度传感器,包括,
压力传感器(1);
红外吸收热敏层(3),其通过键合封环(2)键合于压力传感器(1)的表面,以形成由所述红外吸收热敏层(3)、所述压力传感器(1)、以及所述键合封环(2)围合而成的第一空腔(4a),并且该第一空腔中密封有工作气体(4);
密封的第二空腔(10),其至少形成于所述红外吸收热敏层(3)的上方,所述第二空腔的底部至少包括所述红外吸收热敏层(3),所述第二空腔(10)的侧壁包括介质层图形结构的一部分,所述第二空腔(10)的顶部包括介质层图形结构的另一部分、以及红外滤光片(9),所述红外滤光片(9)与所述第一空腔(4a)的位置对应。
9.如权利要求8所述的气压式温度传感器,其中,
所述第二空腔(10)内为真空。
10.如权利要求8所述的气压式温度传感器,其中,
所述压力传感器(1)是差压式压力传感器或绝压式压力传感器。
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