[发明专利]用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法有效

专利信息
申请号: 201510102402.7 申请日: 2015-03-09
公开(公告)号: CN104909581B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 植松照博 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C03C23/00 分类号: C03C23/00;G03F7/38
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 形成 蚀刻 玻璃 处理 方法
【说明书】:

本发明提供一种玻璃基板的前处理方法,在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模后,进行蚀刻加工、和蚀刻掩模的剥离的情况下,可以在玻璃基板整个表面,几乎不残留剥离残渣地迅速地使蚀刻掩模剥离,并提供在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模方法、和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前,对该玻璃基板,分别实施规定的亲液化处理、碱金属除去处理、和疏水化处理。

技术领域

本发明涉及:对在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板实施的、用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法;在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模的方法;和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。

背景技术

触摸面板是在隔着间隔件对置的玻璃基板和薄膜材料的对置面上分别形成ITO等透明导电物质的膜而构成。该触摸面板中,将薄膜材料的接触位置作为坐标信息检出。

另外,最近,还提出了触摸面板一体型的液晶显示器。该装置是构成液晶显示器的2片玻璃基板的一方兼作触摸面板的玻璃基板的装置,在实现薄型化及轻型化方面非常有效。

以往,作为此种玻璃基板的加工方法一般是物理的方法,然而在加工时容易形成裂纹,存在有强度降低或成品率恶化的问题。

因而,近年来,提出了以将抗蚀剂组合物图案化而得的树脂图案作为掩模对玻璃基板进行蚀刻加工的化学方法(例如参照专利文献1及2)。根据此种化学方法,在加工时不会施加物理的负荷,因此不易形成裂纹。另外,与物理的方法不同,还可以对玻璃基板进行麦克风或扬声器用的开孔加工。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-076768号公报

专利文献2:日本特开2010-072518号公报

发明内容

发明所要解决的问题

然而,专利文献1及2中记载的方法中,由于构成玻璃基板的玻璃的材质,而存在使用抗蚀剂组合物形成的蚀刻掩模从玻璃基板的表面的剥离需要长时间、或者在蚀刻掩模的剥离后容易在玻璃基板表面残留大量的残渣的问题。该问题在抗蚀剂组合物中所含的高分子化合物具有羟基或羧基的情况下特别明显。

另外,在被蚀刻加工的玻璃基板的表面,多预先形成有金属配线、由有机或无机材料构成的作为非导电性的被膜的永久膜。然而,在表面具备金属配线及永久膜的玻璃基板上,使用抗蚀剂组合物形成蚀刻掩模后进行蚀刻加工的情况下,在使蚀刻掩模剥离时,由于玻璃基板、金属配线、和永久膜的表面状态的差别,会有在玻璃基板表面局部地产生蚀刻掩模的残渣的问题。

本发明的目的在于,提供一种玻璃基板的前处理方法,其为在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模后,进行蚀刻加工、和蚀刻掩模的剥离的情况下,无论玻璃基板上的表面材质的种类如何,都可以在玻璃基板整个表面,几乎不残留剥离残渣地迅速地使蚀刻掩模剥离的方法,并提供在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模方法、和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。

用于解决问题的方法

本发明人发现,在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前,通过对该玻璃基板分别实施规定的亲液化处理、碱金属除去处理、和疏水化处理,就可以解决上述问题,从而完成了本发明。

本发明的第一方式为一种前处理方法,是在使用抗蚀剂组合物利用光刻法在玻璃基板的表面形成蚀刻掩模前进行的、玻璃基板的前处理方法,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社,未经东京应化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510102402.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top