[发明专利]坩埚隔绝层的制造方法及其所应用的喷涂装置

权利要求书

1.一种坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，包括如下步骤： 一准备步骤：提供一喷涂装置，以供喷涂步骤使用；其中，所述喷涂装置包含一处理单元、一电连接于所述处理单元的测温单元、及一电连接于所述处理单元的喷涂单元；以及多个喷涂步骤，所述喷涂步骤包括： A）将一坩埚设置在一预设位置上； B）加热所述坩埚，并采用所述测温单元测量所述坩埚内壁面的温度，以得到一喷涂前温度； C) 采用所述喷涂单元依照一预设喷涂手段将一浆料朝向所述坩埚内壁面进行喷涂，以成形一隔绝层； D) 采用所述测温单元测量所述坩埚内壁面上的所述隔绝层，以得到一喷涂后温度；及 E）采用所述处理单元计算所述喷涂前温度以及所述喷涂后温度，以取得所述坩埚在喷涂前后温度的一实际差值，并判断所述实际差值是否落入一预设差值范围； 其中，所述预设差值范围为6℃至12℃，当所述实际差值未落入所述预设差值范围，则所述处理单元传输一调整信号至所述喷涂单元，以变更所述预设喷涂手段；当所述实际差值落入所述预设差值范围，则对所述坩埚重复上述喷涂步骤C）~E），直到所述坩埚内壁面上堆栈形成的所述隔绝层达到一预定厚度。

2.如权利要求1所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述坩埚内壁面包含有一环侧面与一相连于所述环侧面一端的底面，所述环侧面另一端定义有一开口，所述环侧面定义有至少一测温位置，以供所述测温单元对应于所述测温位置而能测得所述喷涂前温度与所述喷涂后温度。

3.如权利要求2所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述坩埚的测温位置位于所述坩埚用以容纳一硅熔汤的最高液面所对应的所述环侧面位置。

4.如权利要求2所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述坩埚的测温位置离所述底面的距离大于所述环侧面另一端离所述底面的距离的80%。

5.如权利要求1所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述预设喷涂手段包含有多个可调整的参数，所述参数包含一单位时间的浆料喷涂量、一浆料喷涂压力、及一浆料喷涂距离。

6.如权利要求5所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述喷涂后温度低于所述喷涂前温度；并且当所述实际差值低于所述预设差值范围时，提高所述单位时间的浆料喷涂量；当所述实际差值高于所述预设差值范围时，降低所述单位时间的浆料喷涂量。

7.如权利要求5所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述单位时间的浆料喷涂量为25至60毫升/秒、所述浆料喷涂压力为50至90磅/英寸²、所述浆料喷涂距离为15至45厘米。

8.如权利要求1至7任一项所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，当多个坩埚形成隔绝层之后，采用所述处理单元根据落入所述预设差值范围内的所述实际差值计算出一标准差，并判断所述标准差是否超出一预设标准差；当所述标准差大于所述预设标准差时，则代表所述喷涂装置处于一异常状态；当所述标准差小于或等于所述预设标准差时，则代表所述喷涂装置处于一正常状态。

9.如权利要求8所述的坩埚隔绝层的制造方法，其特征在于，所述预设标准差为2℃。

10.一种应用于如权利要求2所述的坩埚隔绝层的制造方法的喷涂装置，其特征在于，包括： 所述处理单元，包含一计算机，用以对所述坩埚的内壁面设定所述测温位置以及设定所述喷涂单元所需依照的所述预设喷涂手段； 所述测温单元，具有一第一机械手臂及安装于所述第一机械手臂的一温度传感器，所述第一机械手臂与所述温度传感器皆电连接于所述计算机，以接收所述计算机传来的信号而能受所述计算机驱动；其中，所述第一机械手臂能被所述计算机驱动以使所述温度传感器被移动至对应所述坩埚的测温位置，而所述温度传感器能用以侦测所述坩埚的温度并回传其所测得的温度至所述计算机；以及 所述喷涂单元，具有一第二机械手臂及安装于所述第二机械手臂的一喷枪，所述第二机械手臂与所述喷枪皆电连接于所述计算机，以接收所述计算机传来的信号而能受所述计算机驱动；其中，所述第二机械手臂能被所述计算机驱动以使所述喷枪依照所述预设喷涂手段移动，并且所述喷枪能用以依照所述预设喷涂手段将所述浆料喷涂在所述坩埚内壁面。