[发明专利]一种超薄光隔离器及其制造方法

权利要求书

1.一种超薄光隔离器，其特征是：所述的光隔离器包括有法拉第片、第一聚合物薄膜和第二聚合物薄膜，第一聚合物薄膜和第二聚合物薄膜分别粘贴在法拉第片两面，第一聚合物薄膜粘贴在法拉第片的入光面，第二聚合物薄膜粘贴在法拉第片的出光面，第一面偏振薄膜的偏振方向平行于基准面，第二面偏振薄膜的偏振方向与基准面形成45度夹角。

2.根据权利要求1所述的超薄光隔离器，其特征是：所述的聚合物薄膜为具备偏振性能的银离子聚合物薄膜或铜离子聚合物薄膜。

3.根据权利要求1所述的超薄光隔离器，其特征是：所述的第一聚合物薄膜和第二聚合物薄膜的厚度分别为60um±40um。

4.根据权利要求1所述的超薄光隔离器，其特征是：所述的法拉第片两侧分别设有增透膜，增透膜设置在法拉第片与第一聚合物薄膜和第二聚合物薄膜之间。

5.一种如权利要求1至4中任意一项所述的超薄光隔离器的制造方法，其特征是：所述的方法包括下述步骤：

（1）、在法拉第片上镀制增透膜；

（2）、对法拉第片表面进行处理；

（3）、使用治具设定基准面，将具备偏振性能的薄膜粘附于经表面改性或涂敷胶水的法拉第片上面，入光面为第一面偏振薄膜起偏，出光面为第二面偏振薄膜检偏，第一面偏振薄膜的偏振方向平行于基准面，第二面偏振薄膜的偏振方向与基准面形成45度夹角，在室温下静置固化即可得到样品；

（4）、对上述样品进行切割，得到所需要尺寸的光隔离器Core，与所需形状的磁铁进行组装，得到光隔离器。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征是：具备偏振性能的薄膜的厚度为60um±40um。

7.根据权利要求5所述的制造方法，其特征是：所述的步骤（2）中，处理时可采用如下两种方法：A、可使用改性的方法，即将法拉第片处理清洁后放入含硅烷偶联剂KH-560的乙醇溶液中常温浸泡45-60分钟后取出，在烘烤箱中设置85度，烘干时间为30分钟，得到表面改性的法拉第片；B、或者在法拉第片表面涂敷胶水。