[发明专利]导电性膜和触控面板传感器有效
申请号: | 201510106522.4 | 申请日: | 2015-03-11 |
公开(公告)号: | CN104932737B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 大川晃次郎;黑田刚志 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,张志楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 面板 传感器 | ||
1.一种导电性膜,其具备:
基材膜,该基材膜具备透光性基材以及1层以上的功能层,该1层以上的功能层被层积在上述透光性基材的单面或两面;
设置在上述功能层上且被图案化的透明导电层;以及
与上述透明导电层电连接的取出电极;
该导电性膜满足以下(1)至(6)中的任意一点:
(1)上述功能层具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层、具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层和具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,上述硬涂层、上述高折射率层和上述低折射率层自上述透光性基材侧起以上述硬涂层、上述高折射率层和上述低折射率层的顺序被层积;
(2)上述功能层具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层和具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,但是不具备具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层,上述硬涂层和上述低折射率层自上述透光性基材侧起以上述硬涂层和上述低折射率层的顺序被层积;
(3)上述功能层具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层和具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层,但是不具备具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,上述硬涂层和上述高折射率层自上述透光性基材侧起以上述硬涂层和上述高折射率层的顺序被层积;
(4)上述功能层具备具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层和具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,但是不具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层,上述高折射率层和上述低折射率层自上述透光性基材侧起以上述高折射率层和上述低折射率层的顺序被层积;
(5)上述功能层具备具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,但是不具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层和具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层;
(6)上述功能层具备具有1.55以上1.75以下的折射率的高折射率层,但是不具备具有1.45以上1.60以下的折射率的硬涂层和具有1.35以上且小于1.55的折射率的低折射率层,
在上述基材膜中,设上述基材膜的表面的法线方向为0°,在5°以上75°以下的范围内每隔5度地改变入射角度的同时由上述功能层的表面侧向上述基材膜照射光,由各自的朝向正反射方向的反射光求出上述基材膜中的L*a*b*色度系统的a*值和b*值时,上述基材膜的a*值的偏差为1.0以内,且b*值的偏差为3.0以内。
2.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)、(3)、(4)和(6)中,上述高折射率层具有20nm以上100nm以下的膜厚。
3.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)、(2)、(4)和(5)中,上述低折射率层具有3nm以上100nm以下的膜厚。
4.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)和(4)中,上述高折射率层与上述低折射率层的折射率差为0.10以上0.30以下。
5.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)、(2)和(3)中,上述硬涂层具有0.5μm以上的膜厚。
6.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)和(3)中,上述硬涂层与上述高折射率层的折射率差为0.05以上0.20以下。
7.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述功能层进一步具备易粘接层,该易粘接层具有1.40以上1.70以下的折射率和50nm以上150nm以下的膜厚,
上述(1)、(2)和(3)中,上述易粘接层设于上述透光性基材与上述硬涂层之间,
上述(4)和(6)中,上述易粘接层设于上述透光性基材与上述高折射率层之间,
上述(5)中,上述易粘接层设于上述透光性基材与上述低折射率层之间。
8.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述(1)、(3)、(4)和(6)中,上述高折射率层具有0.5μm以上10μm以下的膜厚。
9.如权利要求1所述的导电性膜,其中,上述取出电极仅被设置在上述透明导电层的一部分上。
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