[发明专利]湿法刻蚀设备

权利要求书

1.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，所述湿法刻蚀设备具有去除刻蚀腔外刻蚀液结晶的功能，其包括：

刻蚀腔，其内部通过刻蚀液对基片上的待刻蚀薄膜进行刻蚀，在其前端具有刻蚀腔入口，在其后端具有刻蚀腔出口；

喷淋管，设置于所述刻蚀腔入口和/或刻蚀腔出口的下方，该喷淋管可朝向上方喷射液体，以清洗在刻蚀腔入口和/或刻蚀腔出口处形成的刻蚀液结晶；

相邻腔，连接于所述刻蚀腔的前端或后端；

遮蔽门，为翻折类型的遮蔽门，通过一转轴安装于刻蚀腔入口或刻蚀腔出口，其在基片通过时打开，在其他时间关闭；

其中，所述喷淋管设置于处于打开状态的遮蔽门的下方，以清洗在遮蔽门上形成的刻蚀液结晶，所述喷淋管向上喷射液体的高度与处于打开状态的遮蔽门平齐；

其中，所述喷淋管喷射的液体为碱性溶液；

所述湿法刻蚀设备还包括：供液管路，用于为所述喷淋管供给液体；阀门，设置于所述供液管路与所述喷淋管之间，用于调节供液管路内液体的压力，进而控制喷淋管喷射液体的高度；

其中，在闭合状态下，所述遮蔽门与基片行进的方向垂直，相邻腔与刻蚀腔之间的刻蚀腔入口和/或刻蚀腔出口关闭；在打开状态下，所述遮蔽门朝向相邻腔的方向翻折90°，相邻腔与刻蚀腔之间的刻蚀腔入口和/或刻蚀腔出口打开。

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于：

所述喷淋管始终向向上喷射液体；或

所述遮蔽门处于打开状态时，所述喷淋管向上喷射液体，所述遮蔽门处于闭合状态时，所述喷淋管停止向上方喷射液体。

3.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述喷淋管包括：

喷淋管本体；以及

多组细孔，分布于所述喷淋管本体上且方向朝向上方的遮蔽门。

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述细孔的孔径介于2mm～5mm之间。

5.根据权利要求1或2所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：两个所述的相邻腔和两个所述的喷淋管；其中：

两个相邻腔为前缓冲腔和后缓冲腔，分别通过前遮蔽门和后遮蔽门与所述刻蚀腔相连通；

两个喷淋管包括：前喷淋管，安装于所述前缓冲腔内，所述前遮蔽门的下方；后喷淋管，安装于所述后缓冲腔内，所述后遮蔽门的下方。

6.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀液为草酸溶液、HNO₃溶液、CH₃COOH溶液或H₃PO₄溶液。

7.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述供液管路与所述喷淋管之间设置有泵，该泵的控制信号与所述遮蔽门的控制信号一致：

遮蔽门打开时，泵同时打开，所述供液管路开始向喷淋管供给液体；

遮蔽门关闭时，泵同时关闭，所述供液管路停止向喷淋管供给液体。

8.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述供液管路连接至水箱。