[发明专利]像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置。

背景技术

近年来，研究人员开始尝试把喷墨打印技术应用于平面功能材料的制备中，如制备有机电致发光二极管显示器的有机材料功能层、液晶显示器的彩色滤光层等。

以有机电致发光二极管显示器(OLED)为例，如图1和图2所示，该有机电致发光二极管包括像素区域01和非像素区域02，像素区域01由多个像素10构成，其中，每个像素10包括依次设置在基板100上的阳极、有机材料功能层和阴极(图1和图2中均未标识出)。其中，在利用喷墨打印的方式在所述阳极上形成所述有机材料功能层时，由于墨水的流动性，为了减少喷墨打印的墨水溢到相邻像素10中，一般在非像素区域02设置像素界定层20，用以形成多个包围每个像素10的空间，喷墨打印的有机材料功能层墨水通过喷墨打印的方式喷涂在上述包围空间内，即喷涂在所述阳极表面。

其中，像素界定层20由形成在基板100上的像素界定层基本图案构成。为了实现像素界定层20疏液的目的，目前最常规的疏液处理方法即为对上述像素界定层基本图案进行含氟等离子处理，然而由于等离子的特性，其性能保持的时间一般不会太长，这样在面对较长时间的制程工艺或者较高温度的退火工艺时，就可能会出现失效的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置，可使像素界定层的疏液性能长久保持。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种像素界定层的制备方法，包括：在基板上形成像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，在所述第一图案表面形成氟代单分子层，形成所述像素界定层。

优选的，所述对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理，包括：在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案；对露出的所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；在所述第一图案表面形成氟代单分子层后，所述方法还包括：去除所述感光型有机树脂层。

基于此，一种可能实现方式为：所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：在基板上形成无机材料的第一薄膜；对所述第一薄膜进行构图工艺，形成由所述第一图案和第二图案构成的所述像素界定层基本图案。

进一步的，所述在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，所述感光型有机树脂层露出所述第一图案，包括：在形成有所述像素界定层基本图案的基板上形成感光型有机树脂材料的第二薄膜，所述第二薄膜覆盖所述像素界定层基本图案；采用等离子体对所述第二薄膜进行刻蚀露出所述第一图案，使所述像素界定层基本图案之间的所述第二薄膜形成所述感光型有机树脂层。

另一种可能实现方式为：所述在基板上形成像素界定层基本图案，包括：在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案。

进一步的，所述在基板上形成由所述第一图案和有机材料的第三图案构成的所述像素界定层基本图案，包括：

在基板上依次形成负性感光型有机树脂材料的第三薄膜、无机材料的第四薄膜以及负性感光型有机树脂材料的第五薄膜；采用普通掩膜板对形成有所述第三薄膜、所述第四薄膜和所述第五薄膜的基板进行曝光，使所述第三薄膜中被固化的部分形成所述第三图案，使所述第五薄膜中被固化的部分形成第五图案，显影后所述第五薄膜中未被固化的部分被去除；以所述第五图案为掩膜，对所述第四薄膜进行刻蚀，形成所述第一图案；其中，所述第三图案和所述第一图案构成所述像素界定层基本图案；

在所述像素界定层基本图案之间形成感光型有机树脂层，包括：待所述第五图案去除后，所述第三薄膜中未被固化的部分形成所述感光型有机树脂层。

基于上述，可选的，采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理；在采用氟代硅烷对所述第一图案进行自组装单分子层表面处理之前，所述方法还包括：对所述第一图案进行羟基化处理。

第二方面，提供一种像素界定层，包括：像素界定层基本图案；所述像素界定层基本图案包括无机材料的第一图案，且所述第一图案位于所述像素界定层基本图案的最上方；还包括：自组装在所述第一图案表面的氟代单分子层。

可选的，所述像素界定层基本图案包括无机材料的所述第一图案和无机材料的第二图案，且所述第一图案和所述第二图案一体形成。