[发明专利]一种铁锅外表面用的抛光装置在审

专利信息
申请号: 201510110564.5 申请日: 2015-03-13
公开(公告)号: CN104741993A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 郑西涛;高嵩;张永伟;刘玉姣 申请(专利权)人: 河南摩西机械制造有限公司
主分类号: B24B19/00 分类号: B24B19/00;B24B41/06;B24B51/00
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 王学鹏
地址: 467100 河南省平顶山市郏*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 铁锅 外表 抛光 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种抛光装置,尤其是涉及一种铁锅外表面用的抛光装置。

背景技术

目前铁锅抛光行业仍是由工人手工抛光。手工作业有劳动强度高、劳动安全难以控制、成本高、生产受农时限制、车间工作环境难以管控、废品率高等缺点,而且抛光过程产生的粉尘对工人的身体健康影响很大,易导致肺衰竭等职业病。

发明内容

本发明的目的是为解决解决现有技术中人手工抛光铁锅外表面造成的不便的问题,提供一种铁锅外表面用的抛光装置。

本发明为解决上述技术问题的不足,所采用的技术方案是:

一种铁锅外表面用的抛光装置,包括用于支撑待抛光铁锅的支撑机构和用于对待抛光铁锅进行抛光的抛光机构,所述的抛光机构包括一对垂直水平面安装的立式轨道,滑动设置在立式轨道上的运动小车,立式轨道上下两端分别设置有上限位板和下限位板以便于限定运动小车在立式轨道上的滑动范围,运动小车上还通过摆杆旋转轴转动连接有摆杆,摆杆的一端上固定有砂轮且砂轮位于支撑机构上方,砂轮位于待抛光铁锅外并与待抛光铁锅外表面贴合,通过运动小车在垂直方向的上下运动可以带动固定在摆杆上的砂轮在水平方向移动以起到打磨抛光待抛光铁锅外表面的作用。

所述的摆杆上设置有一个驱动砂轮转动的砂轮电机。

所述的支撑机构包括一个用于支撑待抛光铁锅的旋转底座、支撑架和底座旋转轴,支撑架固定在所述抛光装置的安装平面上,旋转底座通过底座旋转轴转动安装在支撑架上,且待抛光铁锅倒扣在旋转底座上以便于对其外表面进行抛光处理。

所述的运动小车通过自动控制模块控制其自动工作。

所述的运动小车位于上限位板上时旋转轴与摆杆连接位置的高度小于待抛光铁锅倒扣在支撑机构上时待抛光铁锅边沿处的高度。

本发明的有益效果是:本发明通过小车的运动带动砂轮水平移动从而实现打磨铁锅的作用,同时铁锅通过旋转底座安装可以实现铁锅外表面的均匀打磨,运动小车可以通过数控程序控制其自动工作,也可以通过其他电动手段控制其自由移动,通过小车自由移动避免了人工打磨造成的不便的问题,采用本发明操作方便快捷。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图示标记:1、上限位板;2、运动小车;3、摆杆旋转轴;4、下限位板;5、立式轨道;6、摆杆;7、砂轮电机;8、砂轮;9、待抛光铁锅;10、旋转底座;11、底座旋转轴。

具体实施方式

图中所示,具体实施方式如下:

一种铁锅外表面用的抛光装置,包括用于支撑待抛光铁锅的支撑机构和用于对待抛光铁锅进行抛光的抛光机构,其特征在于:所述的抛光机构包括一对垂直水平面安装的立式轨道5,滑动设置在立式轨道5上的运动小车2,立式轨道5上下两端分别设置有上限位板1和下限位板4以便于限定运动小车2在立式轨道5上的滑动范围,运动小车2上还通过摆杆旋转轴3转动连接有摆杆6,摆杆6的一端上固定有砂轮8且砂轮8位于支撑机构上方,砂轮8位于待抛光铁锅9外并与待抛光铁锅9外表面贴合,通过运动小车2在垂直方向的上下运动可以带动固定在摆杆6上的砂轮8在水平方向移动以起到打磨抛光待抛光铁锅9外表面的作用。

所述的摆杆6上设置有一个驱动砂轮8转动的砂轮电机7。

所述的支撑机构包括一个用于支撑待抛光铁锅9的旋转底座10、支撑架和底座旋转轴11,支撑架固定在所述抛光装置的安装平面上,旋转底座10通过底座旋转轴11转动安装在支撑架上,且待抛光铁锅9倒扣在旋转底座10上以便于对其外表面进行抛光处理。

所述的运动小车2通过自动控制模块控制其自动工作,所述的自动控制模块为现有技术因此不做详细描述,可以采用计算机程序控制,也可以通过行程开关通过电力控制等很多方式可以选择只要实现小车自由滑动即可。

所述的运动小车2位于上限位板4上时旋转轴与摆杆5连接位置的高度小于待抛光铁锅7倒扣在支撑机构上时待抛光铁锅7边沿处的高度。

摆杆通过旋转轴连接在运动小车上;运动小车在垂直方向的上下运动可以带动摆杆在水平方向移动。如果采用计算机控制时,计算机控制运动小车的轨迹实现摆杆上的砂轮自动沿着铁锅外表面的曲线轨迹行走,在铁锅和砂轮高速旋转时实现铁锅外表面抛光。

本发明所列举的技术方案和实施方式并非是限制,与本发明所列举的技术方案和实施方式等同或者效果相同方案都在本发明所保护的范围内。

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