[发明专利]一种掩膜板及其制备方法在审
| 申请号： | 201510111888.0 | 申请日： | 2015-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104630705A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 王劭颛;张沈钧;翁国峰 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括图形区域和空白区域，所述空白区域设置在所述图形区域的外围，所述图形区域设置有蒸镀孔，所述空白区域设置有至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀孔横向设置为至少一行，每行蒸镀孔的左右两边分别设置有至少一个缓冲孔。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述缓冲孔的形状包括矩形、椭圆形、圆形和半圆形中至少一种。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述椭圆形的离心率的范围包括0.2至0.8。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述缓冲孔为通孔和/或盲孔。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述盲孔的深度与所述掩膜板的深度的比值范围包括20％至80％。
7.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述缓冲孔的宽度与所述蒸镀孔的宽度相同。
8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述缓冲孔距离所述图形区域的边缘的距离不小于1mm，所述缓冲孔距离所述掩膜板的边缘的距离不小于1mm。
9.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔；
在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔，所述缓冲孔与所述蒸镀孔对应设置，所述空白区域位于所述图形区域的外围。
10.根据权利要求9所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔的步骤包括：
在所述图形区域横向形成至少一行蒸镀孔；
所述在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔的步骤包括：
在每行蒸镀孔的左右两边分别形成至少一个缓冲孔。
11.根据权利要求9所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述在掩膜板本体的图形区域形成蒸镀孔的步骤包括：
通过化学刻蚀工艺或者激光刻蚀工艺形成蒸镀孔；
所述在所述掩膜板本体的空白区域形成至少一个缓冲孔的步骤包括：
通过化学刻蚀工艺或者激光刻蚀工艺形成缓冲孔。
12.根据权利要求9所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述掩膜板本体的构成材料为因瓦合金。
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