[发明专利]放射线敏感性组合物、固化膜、显示元件和着色剂分散液

权利要求书

1.一种放射线敏感性组合物，含有(A)聚合物、(B)聚合性化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂，并进一步含有(D)着色剂，

所述(A)聚合物选自下述聚合物A1、聚合物A2和聚合物A3中，是聚合物A1、或者是聚合物A2和聚合物A3的组合，

聚合物A1：具有环氧乙基和氧杂环丁基的聚合物，

聚合物A2：具有环氧乙基的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1，

聚合物A3：具有氧杂环丁基的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1，

所述(A)聚合物中的环氧乙基(oxi)与氧杂环丁基(oxe)的比例以摩尔比(oxi/oxe)计为3/97～50/50，

所述聚合物A1～A3中至少1种进一步具有取代或者非取代的氨基，

所述(A)聚合物的胺值为1～200mgKOH/g。

2.根据权利要求1所述的放射线敏感性组合物，其中，所述聚合物A1是包含具有环氧乙基的烯属不饱和单体a1和具有氧杂环丁基的烯属不饱和单体a2的单体的共聚物，

所述聚合物A2是包含具有环氧乙基的烯属不饱和单体a1的单体的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1，

所述聚合物A3是包含具有氧杂环丁基的烯属不饱和单体a2的单体的聚合物，其中，不包括所述聚合物A1。

3.根据权利要求2所述的放射线敏感性组合物，其中，所述不饱和单体a1包含具有缩水甘油醚基的烯属不饱和单体或者具有将碳-碳双键进行环氧化而成的脂环式基团的烯属不饱和单体。

4.根据权利要求2或3所述的放射线敏感性组合物，其中，所述不饱和单体a1包含选自以下述式(1)～(3)中的任一个表示的化合物中的至少1种，

式(1)中，

R¹表示氢原子或者甲基，

X¹表示单键或者可以含有杂原子的碳原子数为1～6的烷烃二基，

式(2)和式(3)中，

R²相互独立地表示氢原子或者甲基，

X²相互独立地表示单键或者可以含有杂原子的碳原子数为1～6的烷烃二基。

5.根据权利要求2或3所述的放射线敏感性组合物，其中，所述不饱和单体a2包含选自以下述式(4)～(6)中的任一个表示的化合物中的至少1种，

式(4)、(5)和(6)中，

R²¹和R³¹相互独立地表示氢原子或者甲基，

R¹¹～R¹⁵、R²²～R²⁶和R³²～R³⁶相互独立地表示氢原子、取代或非取代的碳原子数为1～6的烷基、或者取代或非取代的芳基，

Y¹、Y²和Y³相互独立地表示单键或者可以含有1个以上的杂原子的碳原子数为1～6的烷烃二基。

6.根据权利要求1所述的放射线敏感性组合物，(D)着色剂含有染料。

7.一种固化膜，是使用权利要求1～6中任1项所述的放射线敏感性组合物形成的。

8.一种显示元件，具备权利要求7所述的固化膜。